Sterilization system employing low frequency plasma

Details Sterilization system employing low frequency plasma Sterilization system employing low frequency plasma

A - Human Necessities

61

L

A61L 2/14 (2006.01) A61L 2/20 (2006.01) A61L 2/24 (2006.01) H05H 1/24 (2006.01)

Patent

CA 2357963

A method and system for sterilizing an article is provided that includes use of a low frequency (LF) gas discharge plasma. The method includes placing the article in a vacuum chamber and evacuating the vacuum chamber to a predetermined pressure. Gas or vapor species are introduced into the vacuum chamber, and a low frequency plasma is generated within the vacuum chamber, the low frequency plasma having a frequency of from 0 to approximately 200 kHz. The low frequency plasma is maintained for a time period sufficient to substantially remove gas or vapor species from the article. The sterilization system includes a vacuum chamber coupled to a vacuum pump and a vent, a first electrode, and a second electrode. The sterilization system further includes a first region within the vacuum chamber, the first region including a region between the first and second electrodes, and a second region within the vacuum chamber, the second region being in fluid communication with the first region. The sterilization system further includes a source of reactive agent species coupled to the vacuum chamber, a process control monitor, and a low frequency power module including components adapted to apply a low frequency voltage between the first electrode and second electrode to generate a low frequency plasma in the vacuum chamber, the low frequency voltage having a frequency of from 0 to approximately 200 kHz.

L'invention porte sur une méthode et un système de stérilisation d'un article au moyen d'un plasma basse fréquence à décharge gazeuse. Selon la méthode inventée, on place l'article dans une chambre à vide, que l'on règle ensuite à une dépression donnée. Une vapeur ou un gaz donné est ensuite introduit dans la chambre sous vide et un plasma basse fréquence est alors généré à l'intérieur de la chambre sous vide. La fréquence du plasma basse fréquence se situe approximativement entre 0 et 200 kHz. Le plasma basse fréquence est entretenu suffisamment longtemps pour éliminer toute trace du gaz ou de la vapeur de l'article. Le système de stérilisation est constitué d'une chambre à vide reliée à une pompe à vide et à une soupape de dépression ainsi qu'à deux électrodes. Le système de stérilisation prévoit aussi la séparation de la chambre à vide en deux sections. La première section se trouve entre les deux électrodes et la deuxième section communique librement avec la première. Le système de stérilisation comprend également une source d'agent chimique réactif branchée à la chambre à vide, un écran de surveillance du procédé et un module d'alimentation basse fréquence pourvu de tous les composants nécessaires pour générer un courant basse fréquence (entre 0 et 200 kHz, approximativement) entre les deux électrodes, de manière à créer un plasma basse fréquence dans la chambre à vide.

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