C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 295/15 (2006.01)
Patent
CA 2173933
Nouveaux [2-(1-pipérazinyl)éthoxy]méthyle substitués. La présente invention se rapporte à des composés nouveaux, des [2-(1-pipérazinyl)éthoxy]méthyle substitués de formule (voir fig.I) (I) dans laquelle R1 représente un groupe -CONH2, -CN, -COOH ou -COOR3, R3 étant un radical alkyl ayant de 1 à 4 atomes de carbone; et R2 représente un atome d'hydrogène ou un groupe -COR4 ou -R5, où R4 est choisi parmi les groupes -OR6 ou -R7, dans lesquels R5 représente un radical allyle ou alkylaryle, R6 représente un radical alkyle linéaire ou ramifié ayant de 1 à 4 atomes de carbone, un radical halogénoalkyle, alkylaryle, alkylnitroaryle ou alkylhalogénoaryle, et R7 représente un halogénoalkyle, à un procédé de préparation de ces composés, de même qu'à leur utilisation pour la préparation de composés qui sont eux-mêmes des produits intermédiaires précieux pour la préparation de l'acide 2-(2-[4-[(4-chlorophényl)phénylméthyl]-1-pipérazinnyl]éthoxy]acétique et/ou de ses sels pharmaceutiquement acceptables.
Bodson Guy
Deleers Michel
Duchene Guy
Motte Genevieve
Robic
U. C. B. S.a.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1435735