A - Human Necessities – 61 – L
Patent
A - Human Necessities
61
L
A61L 31/00 (2006.01) A61L 31/10 (2006.01)
Patent
CA 2619216
A method for modifying an ePTFE surface by plasma immersion ion implantation includes the steps of providing an ePTFE material in a chamber (42) suitable for plasma treatment; providing a continuous low energy plasma discharge (50) onto the sample; and applying negative high voltage pulses of short duration (52) to form a high energy ion flux from the plasma discharge to generate ions which form free radicals on the surface of the ePTFE material without changing the molecular and/or physical structure below the surface to define a modified ePTFE surface. The step of applying the high voltage pulses modifies the surface of the ePTFE without destroying the node and fibril structure of the ePTFE, even when the step of applying the high voltage pulses etches and/or carburizes the surface of the ePTFE. The modified surface may have a depth of about 30 nm to about 500 nm. The ions are dosed onto the ePTFE sample at concentrations or doses from about 1013 ions/cm2 to about 1016 ions/cm2-
La présente invention se rapporte à un procédé de modification d'une surface ePTFE par implantation ionique par immersion plasma comprenant les étapes consistant à utiliser une matière en ePTFE dans une chambre permettant un traitement au plasma; à produire une décharge continue de plasma à faible énergie sur l'échantillon; et à appliquer des impulsions négatives à haute tension et de courte durée pour former un flux ionique à haute énergie à partir de la décharge de plasma pour générer des ions qui forment des radicaux libres sur la surface de la matière en ePTFE sans modifier la structure moléculaire et/ou physique en-dessous de la surface aux fins de l'obtention d'une surface ePTFE modifiée. L'étape d'application des impulsions haute tension modifie la surface du ePTFE sans détruire la structure en noeuds et fibrilles du ePTFE, même lorsque l'étape d'application des impulsions haute tension produit un décapage et/ou une carburation de la surface du ePTFE. La surface modifiée peut présenter une épaisseur d'environ 30 nm à environ 500 nm. Les ions sont dosés sur l'échantillon de ePTFE à des concentrations ou doses allant d'environ 1013 ions/cm2 à environ 1016 ions/cm2.
Kondyurin Alexey
Maitz Manfred Franz
Boston Scientific Limited
Piasetzki Nenniger Kvas Llp
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1738957