Surface modification of medical implants

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B - Operations, Transporting

44

C

B44C 1/22 (2006.01) A61L 27/38 (2006.01) A61L 27/50 (2006.01) A61L 27/56 (2006.01) C23C 14/34 (2006.01) C23F 4/00 (2006.01)

Patent

CA 2307612

An irregularly etched metallic medical implant device is provided having random non-uniform relief patterns on the surface ranging from about 0.3 µm to less than about 20 µm in depth. The random, irregular surface as defined by the etch micromorphology and respective dimensional properties is obtained by exposing a surface to a reactive plasma in a chamber wherein said reactive plasma produces a reaction product with the surface to thereby etch the surface, said reaction product or a complex thereof having a vapor pressure lower than a pressure in the chamber; providing a dynamic masking agent during the etching process; and removing the reaction products.

On décrit un dispositif de prothèse médicale en métal gravé de manière irrégulière qui comporte sur sa surface des motifs en relief non uniformes aléatoires dont la profondeur varie entre environ 0,3 µm et moins de 20 µm environ. La surface irrégulière aléatoire telle qu'elle est définie par la micromorphologie de la gravure et les propriétés dimensionnelles respectives, résulte de l'exposition d'une surface à un plasma réactif dans une chambre dans laquelle le plasma réactif produit un produit de réaction avec la surface pour attaquer ainsi ladite surface, le produit de réaction ou un complexe de ce dernier présentant une pression de la vapeur qui est inférieure à la pression à l'intérieur de la chambre; de l'utilisation d'un agent de masquage dynamique pendant le processus de gravure; et de l'élimination des produits de réaction.

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