H - Electricity – 05 – G
Patent
H - Electricity
05
G
H05G 2/00 (2006.01) A61B 6/00 (2006.01) H01J 35/00 (2006.01)
Patent
CA 2436879
The present invention concerns x-ray sources for mammography. A microfocused x-ray source of small size (30 µµm and smaller) with x-ray spectrum optimized for enhanced mammography is obtained with a method and system according to the invention. The proposed x-ray source is based on the use of plasmas created by the energy distribution of suprathermal electrons that are produced during the interaction of the laser beam with a solid target. These hot electrons penetrate the surface layer of cold plasma and interact with the solid core of the target. The method and system according to the present invention allows optimizing the x-ray source size, its spectral distribution, and the conversion efficiency in the 17.3 - 28.5 keV range (adapted to the breast thickness).
La présente invention a pour objet des sources de rayons X pour la mammographie. Une source de rayons X à microfocalisation de petite dimension (30µm et moins) ayant un spectre X optimisé pour une mammographie améliorée est obtenue grâce à une méthode et à un système de la présente invention. La source proposée de rayons X est basée sur l'utilisation de plasmas créés par la distribution énergétique d'électrons suprathermiques produits pendant l'interaction du faisceau laser avec une cible solide. Ces électrons chauds pénètrent la couche superficielle de plasma froid et interagissent avec le noyau solide de la cible. La méthode et le système de la présente invention permettent d'optimiser la taille de la source de rayons X, sa distribution spectrale et son efficacité de conversion dans la gamme 17,3 - 28,5 keV (adapté à l'épaisseur des tissus mammaires).
Kieffer Jean-Claude
Krol Andrzej
Goudreau Gage Dubuc
Kieffer Jean-Claude
The Research Foundation Of State University Of New York
LandOfFree
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