System and method for implementing balanced rf fields in an...

H - Electricity – 01 – J

Patent

Rate now

  [ 0.00 ] – not rated yet Voters 0   Comments 0

Details

H01J 49/42 (2006.01)

Patent

CA 2648879

A system and method are disclosed for effectively compensating for non-linear field components created by a field distortion feature in a quadrupolar ion trap, compensation provided by a geometric surface shaping which reduces the non-linear field components and creates a minimal centerline radio-frequency potential in the ion trap. The ion trap includes a centerline that passes longitudinally through a trapping volume inside of the ion trap, a pair of Y electrodes with inner Y electrode surfaces that are approximately parallel to the centerline, and a pair of X electrodes with inner X electrode surfaces that are approximately parallel to the centerline. The X electrodes have one or more ejection slots through which trapped ions are ejected from said ion trap. The inner Y electrode surfaces each have a Y radius of curvature, and the inner X electrode surfaces each have an X radius of curvature. The X radius of curvature is selected to be smaller than the Y radius of curvature. A balanced centerline potential is provided at the centerline of the ion trap.

La présente invention concerne un système et un procédé pour compenser de manière effective pour des composants de champ non linéaires créés par une fonction de déformation de champ dans un piège à ions quadripolaire, la compensation étant fournie par la formation d'une surface géométrique qui réduit les composants de champs non linéaires et crée le potentiel de radiofréquence de ligne centrale minimale dans ce piège. Le piège comprend une ligne centrale qui passe longitudinalement par un volume de piège à l'intérieur du piège, une paire d'électrodes Y avec des surfaces d'électrodes intérieures Y qui sont approximativement parallèles à la ligne centrale et une paire d'électrodes X avec des surfaces d'électrode internes X qui sont approximativement parallèles à la ligne centrale. Les électrodes X ont au moins un emplacement d'éjection par lequel les ions piégés sont éjectés du piège. Les surfaces d'électrodes Y intérieures ont chacune un rayon Y de courbure et les surfaces d'électrodes intérieures X ont chacune un rayon X de courbure. Le rayon X de courbure est sélectionné pour être plus petit que le rayon Y correspondant. Un potentiel de ligne centrale équilibré est fourni au niveau de la ligne centrale du piège à ions.

LandOfFree

Say what you really think

Search LandOfFree.com for Canadian inventors and patents. Rate them and share your experience with other people.

Rating

System and method for implementing balanced rf fields in an... does not yet have a rating. At this time, there are no reviews or comments for this patent.

If you have personal experience with System and method for implementing balanced rf fields in an..., we encourage you to share that experience with our LandOfFree.com community. Your opinion is very important and System and method for implementing balanced rf fields in an... will most certainly appreciate the feedback.

Rate now

     

Profile ID: LFCA-PAI-O-1622050

  Search
All data on this website is collected from public sources. Our data reflects the most accurate information available at the time of publication.