C - Chemistry – Metallurgy – 10 – K
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
10
K
C10K 3/04 (2006.01) B01J 23/40 (2006.01) C01B 3/58 (2006.01) H01M 8/06 (2006.01)
Patent
CA 2362470
A method for removing carbon monoxide which is contained in an amount of 1,000 ppm to a few percentages in a gas to be treated being rich in hydrogen, such as the reformed gas obtained by reforming a fuel such as natural gas or methanol, which method, using a system comprising two CO-removing units, comprises a first step removing carbon monoxide by methanation in the presence of a catalyst in a first CO-remover and a second step removing residual carbon monoxide by a catalytic oxidation reaction with the use of an oxidizing agent in a second CO-remover. This method allows removing carbon monoxide very effectively, for example, to a level of tens of ppm or less (in some cases, 10 ppm) with a reduced loss of hydrogen even when carbon dioxide and methane are present.
L'invention concerne un procédé de suppression du monoxyde de carbone contenu à raison de 1 000 ppm ou moins dans un gaz à traiter riche en hydrogène, tel que le gaz réformé obtenu par reformage d'un combustible, comme le gaz naturel ou le méthanol. Ledit procédé consiste d'abord, au moyen d'un système comportant deux unités de suppression du CO, à supprimer le monoxyde de carbone par méthanisation en présence d'un catalyseur dans une première unité de suppression du CO, puis à supprimer le monoxyde de carbone résiduel par une réaction d'oxydation catalytique au moyen d'un agent d'oxydation dans une deuxième unité de suppression de CO. Ledit procédé permet également la suppression très efficace du monoxyde de carbone, par exemple, jusqu'à un niveau de dizaines de ppm ou moins (dans certains cas 10 ppm) avec une perte d'hydrogène réduite, même lorsque du dioxyde de carbone et du méthane sont présents.
Echigo Mitsuaki
Okada Osamu
Suzuki Minoru
Marks & Clerk
Osaka Gas Co. Ltd.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1641301