C - Chemistry – Metallurgy – 09 – K
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
09
K
C09K 3/00 (2006.01) C01B 3/02 (2006.01) C23C 4/00 (2006.01) H05H 1/42 (2006.01)
Patent
CA 2255409
Gaz plasmagène constitué d'un mélange ternaire d'helium, d'argon et d'hydrogène, caractérisé en ce qu'il contient moins de 30% d'hélium, au moins 55% d'argon et de 5,5 à 15% d'hydrogène. Le gaz plasmagène selon l'invention est susceptible d'être utilise dans un procédé de traitement thermique, tel la projection plasma d'un matériau réfractaire ou metallique.
Gourlaouen Vincent
Remy Francois
L'air Liquide Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Proced Es Geo
Ogilvy Renault Llp/s.e.n.c.r.l.,s.r.l.
LandOfFree
Ternary gas mixture and application of this mixture to the... does not yet have a rating. At this time, there are no reviews or comments for this patent.
If you have personal experience with Ternary gas mixture and application of this mixture to the..., we encourage you to share that experience with our LandOfFree.com community. Your opinion is very important and Ternary gas mixture and application of this mixture to the... will most certainly appreciate the feedback.
Profile ID: LFCA-PAI-O-1996964