The surface treatment of nanoparticles to control...

H - Electricity – 01 – L

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H01L 21/02 (2006.01)

Patent

CA 2563085

A surface treated particle comprising a plurality of inorganic, metallic, semi- metallic, and/or metallic oxide particles and a star-graft copolymer with looped and/or linear polymeric structure on a star-graft copolymer, obtainable by a heterogeneous polymerization reaction in the particle surface proximity, encapsulating at least a portion of said particles and a method for making the same. The surface treatment comprises: Si (w, x, y, z), where: w, x, y, and z are mole percent tetrafunctional, trifunctional, difunctional, and monofunctional monomeric units, respectively; w, x, y, and z are about 0-50, 0- 50, 5 - 99, and 0-5, respectively; w is tetraethylorthosilicate; x is selected from the group consisting of .gamma.-glycidoxypropyltrimethoxysilane, .gamma.- methacryloxypropyltrimethoxysilane, methyltrimethoxysilane, n- propyltrimethoxysilane, isobutyltrimethoxysilane, n-hexyltrimethoxysilane, n- octyltrimethoxysilane, n-octadecyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, 3- (trimethoxysilyl)propylsuccinic anhydride, heptadecafluorotrimethoxysilane, 3- isocyanatopropyltrimethoxysilane, 2-(diphenylphosphino)ethyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, n- (trimethoxysilylpropyl)EDTA, pentafluorophenylpropyltrimethoxysilane, trifluoropropyltrimethoxysilane, and the triethoxy-containing counterparts of these monomers; y is selected from the group consisting of dicyclohexyldimethoxysilane, diethyldiethoxysilane, dimethyldichlorosilane, dimethyldiethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, di-n-hexyldichlorosilane, n- hexylmethyldichlorosilane, methyldodecyldiethoxysilane, n- octylmethyldimethoxysilane, and the diethoxy-containing counterparts of these monomers; and z is selected form the group consisting of n- octadecyldimethylmethoxysilane, triethylsilanol, trimethylethoxysilane, trimethylmethoxysilane, and the ethoxy-containing counterparts of these monomers. Product(s) per se, defined as surface treated ZnO and/or TiO2, and the use of the product(s) per se in personal care formulations are excluded.

Cette invention se rapporte à une particule traitée en surface, qui comprend plusieurs particules inorganiques, métalliques, semi-métalliques et/ou d'oxyde métallique et un copolymère de greffe en étoile avec une structure polymère en boucle et/ou linéaire sur un copolymère de greffe en étoile, pouvant être obtenue par une réaction de polymérisation hétérogène à proximité de la surface de la particule, encapsulant au moins une partie de ces particules, ainsi qu'à un procédé de fabrication de cette particules. Ce traitement de surface utilise: l'élément Si (w, x, y, z), où: w, x, y et z représentent des unités monomères tétrafonctionnelles, trifonctionnelles, difonctionnelles et monofonctionnelles en % molaire, respectivement; w, x, y et z sont compris entre environ 0 et 50, 0 et 50, 5 et 99 et 0 et 5, respectivement; w représente tétraéthylorthosilicate; x est choisi dans le groupe constitué de .gamma.-glycidoxypropyltriméthoxysilane, .gamma.-méthacryloxypropyltriméthoxysilane, méthyltriméthoxysilane, n-propyltriméthoxysilane, isobutyltriméthoxysilane, n-héxyltriméthoxysilane, n-octyltriméthoxysilane, n-octadécyltriméthoxysilane, phényltriméthoxysilane, anhydride 3-(triméthoxysilyl)propylsuccinique, heptadécafluorotriméthoxysilane, 3-isocyanatopropyltriméthoxysilane, 2-(diphénylphosphino)éthyltriméthoxysilane, 3-aminopropyltriméthoxysilane, 3-mercaptopropyltriméthoxysilane, n-(triméthoxysilylpropyl)EDTA, pentafluorophénylpropyltriméthoxysilane, trifluoropropyltriméthoxysilane, et les contreparties à teneur en triéthoxy de ces monomères; y est choisi dans le groupe composé de dicyclohéxyldiméthoxysilane, diéthyldiéthoxysilane, diméthyldichlorosilane, diméthyldiéthoxysilane, diméthyldiméthoxysilane, diphényldiéthoxysilane, diphényldiméthoxysilane, di-n-hexyldichlorosilane, n-hexylméthyldichlorosilane, méthyldodecyldiéthoxysilane, n-octylméthyldiméthoxysilane, et les contreparties en teneur de diéthoxy de ces monomères; et z est choisi dans le groupe composé de n-octadécyldiméthylmethoxysilane, triéthylsilanol, triméthylethoxysilane, triméthylméthoxysilane, et les contreparties à teneur en éthoxy de ces monomères. Un ou des produits en soi, définis comme composés ZnO et/ou TiO¿2?, traités en surface et l'utilisation de ce ou de ces produits en soi dans des formulations de soins personnels sont exclus.

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