Thermal process for treating a polysilazane containing = si...

C - Chemistry – Metallurgy – 07 – F

Patent

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260/446.3

C07F 7/10 (2006.01) C04B 35/571 (2006.01) C04B 35/589 (2006.01) C08G 77/62 (2006.01) C08L 83/16 (2006.01)

Patent

CA 1263963

PRECIS DE LA DIVULGATION: La présente invention concerne un procédé de traitement thermique à une température comprise entre 40 et 220° C d'un polysilazane contenant en moyenne au moins 2, de préférence au moins 3 groupes ? SiH par molécule et au moins 2 groupes ? Si - ? - et éventuellement des groupes hydrocar- bonés aliphatiques insaturés liés aux atomes de silicium. Les polysilazanes ainsi traités présentent une tenue thermique élevée et sont utilisables notamment comme précurseurs de produits céramiques avec un rendement en produit minéral élevé. L'invention concerne également une composition polysilazane obtenue par la mise en oeuvre du procédé précédemment mentionné.

509259

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