G - Physics – 02 – B
Patent
G - Physics
02
B
G02B 5/28 (2006.01) G02B 27/10 (2006.01)
Patent
CA 2736292
Novel thin film optical filters have an in-tegral air layer. The frustrated total internal reflection (FTIR) phenomenon, combined with thin film interfer-ence, is used to effectively control the polarization prop-erties of thin film coatings operating at oblique angles. The invention is applicable to high-performance thin film polarizing beam-splitters, non-polarizing beam-splitters, non-polarizing cut-off filters and non-polarizing band-pass filters, and any other thin film coatings that require the control of polarization effect. The low index layer of-fers an improvement in performance and the simplifica-tion of the thin film optical filter coating designs by re-ducing the total number of layers and the total layer thicknesses to minimize the angles of incidence and the size of the filter substrates, thereby minimizing the con-tact area and hence reducing the manufacturing costs.
L'invention porte sur de nouveaux filtres optiques en couche mince qui ont une couche d'air intégrée. Le phénomène de réflexion interne totale frustrée (FTIR), combiné avec une interférence de couche mince, est utilisé pour commander efficacement les propriétés de polarisation de revêtements en couche mince fonctionnant à des angles obliques. L'invention est applicable à des diviseurs de faisceau polarisants en couche mince de grande efficacité, à des diviseurs de faisceau non polarisants, à des filtres de coupure non polarisants et à des filtres passe-bande non polarisants et à tout autre revêtement en couche mince qui nécessite la commande d'un effet de polarisation. La couche à indice faible offre une amélioration defficacité et la simplification des conceptions de revêtement de filtre optique en couche mince par la réduction du nombre total de couches et des épaisseurs de couche totales pour réduire à un minimum les angles d'incidence et la dimension des substrats de filtre, réduisant ainsi à un minimum la zone de contact et par conséquent réduisant les coûts de fabrication.
Dobrowolski Jerzy A.
Li Li
Marks & Clerk
National Research Council Of Canada
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1755138