B - Operations – Transporting – 65 – G
Patent
B - Operations, Transporting
65
G
B65G 1/00 (2006.01) C23C 14/56 (2006.01) C23C 16/00 (2006.01) C23C 16/54 (2006.01) C23F 1/02 (2006.01) H01L 21/677 (2006.01) H01L 21/687 (2006.01)
Patent
CA 2407358
A semiconducteur substrate processing system, including a single wafer reactor and a multi-wafer holder (30) positionable in the reactor. The system also optionally includes an automated substrate transport assembly (144) including a multi-wand array for transporting a corresponding plurality of wafers into and out of the reactor, and a multi-wafer cassette (100) for simultaneously supplying multiple wafers to the multi-wand array. The multi-wafer modifications permit ready upgradeability to an existing single wafer reactor and markedly enhance the throughput capacity of the reactor while retaining the film uniformity and deposition process control advantages of the single wafer reactor system.
L'invention porte sur un système de traitement de substrat à semi-conducteur comprenant un réacteur à plaquette unique et un dispositif de retenue de plusieurs plaquettes (30) pouvant se positionner dans le réacteur. Ce système comprend également un ensemble automatisé de transport (144) des substrats comportant un plateau à plusieurs parois destiné à transporter une pluralité correspondante de plaquettes à l'intérieur et à l'extérieur du réacteur, et une cassette à plusieurs plaquettes (100) pour amener simultanément plusieurs plaquettes sur le plateau à plusieurs parois. Les modifications de plusieurs plaquettes permettent d'apporter des améliorations à un réacteur existant à plaquette unique et d'augmenter comnsidérablement la capacité de débit du réacteur tout en maintenant l'uniformité du film et en conservant les avantages de commande du processus de dépôt du système du réacteur à plaquette unique.
Advanced Technology Materials Inc.
Kirby Eades Gale Baker
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1473801