Transparent resin plate and a method for producing the same

B - Operations – Transporting – 05 – D

Patent

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B05D 5/06 (2006.01) B05D 3/06 (2006.01) B32B 27/00 (2006.01) B32B 27/36 (2006.01) B60J 1/00 (2006.01)

Patent

CA 2715727

A transparent resin plate superior in quality and productivity and a method for producing the same by forming a hard-coating layer formed on a substrate into a hardened film and by establishing a reforming method thereof are disclosed. The transparent resin plate comprises a substrate (1), a primer layer (2) and a hard-coating layer (3) in order, wherein the primer layer (2 ) is formed by a wet method, the hard-coating layer (3) is formed out of silicone polymer by the wet method, the surface of the silicone polymer layer is exposed to an irradiation of ultraviolet light having a wavelength no grater than 200 nm, and only the exposed region is changed into a reformed region mainly composed of silicon dioxide.

L'invention porte sur une plaque de résine transparente ayant une excellente qualité et une excellente productivité, qui est obtenue par durcissement et amincissement d'une couche de revêtement dur formée sur un substrat et établissement d'une technique de modification adéquate pour la couche de revêtement dur. L'invention porte également sur un procédé pour produire la plaque de résine transparente. L'invention porte spécifiquement sur une plaque de résine transparente dans laquelle un substrat (1), une couche d'amorce (2) et une couche de revêtement dur (3) sont formés dans cet ordre. La couche d'amorce (2) est formée par un procédé par voie humide, et la couche de revêtement dur (3) est formée d'un polymère de silicium par un procédé par voie humide. La surface de la couche de polymère de silicium est irradiée par une lumière ultraviolette ayant une longueur d'onde de pas plus de 200 nm, de telle sorte que seule la partie exposée à celle-ci est modifiée en une partie modifiée qui contient du dioxyde de silicium comme composant principal.

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