C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 215/56 (2006.01) A61K 31/495 (2006.01) A61K 31/55 (2006.01) C07D 401/00 (2006.01) C07D 405/00 (2006.01) C07D 409/00 (2006.01) C07D 413/00 (2006.01) C07D 417/00 (2006.01)
Patent
CA 2194435
An 8-trifluoromethylquinolinecarboxylic acid derivative represented by general formula (I) or a pharmacologically acceptable salt or ester thereof wherein: R1 represents lower alkyl, halogenated lower alkyl or cycloalkyl; R2 represents a phenyl group which may be substituted by R0, a five- or six- membered heteroaromatic monocyclic group which may be substituted by R0 and bears one or two heteroatoms selected from among N, O and S, or a fused heteroaromatic group composed of the above heteroaromatic monocycle and a benzene ring; R0 represents halogen, lower alkyl, fluorinated lower alkyl, lower alkoxy or lower alkylthio; R3 represents hydrogen or lower alkyl; and m represents an integer of 2 or 3.
L'invention se rapporte à un acide 8-trifluorométylquinoléinecarboxylique dérivé, représenté par la formule (I), ou à un sel ou un ester pharmacologiquement acceptable de celui-ci. Dans cette formule, R?1¿ représente alkyle inférieur, cycloalkyle ou alkyle inférieur halogéné; R?2¿ représente un groupe phényle qui peut être substitué par R?0¿, un groupe monocyclique pentagonal ou hexagonal qui peut être substitué par R?0¿ et porte un ou deux hétéroatomes sélectionnés parmi N, O et S, ou un groupe hétéroaromatique fusionné, composé du monocycle hétéroaromatique précité et un noyau benzénique, R?0¿ représente halogène, alkyle inférieur, alkyle inférieur fluoruré, alcoxy inférieur ou alkylthio inférieur; R?3¿ représente hydrogène ou alkyle inférieur; et m représente un nombre entier égal à 2 ou 3.
Katsube Tetsushi
Kimura Tomio
Nishigaki Takashi
Marks & Clerk
Sankyo Company Limited
Ube Industries Ltd.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1668856