C - Chemistry – Metallurgy – 01 – B
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
01
B
C01B 33/02 (2006.01) C01B 33/03 (2006.01)
Patent
CA 2535537
A reaction vessel that avoids excessive temperature load on constituent members thereof, enabling smooth fall and recovery of formed silicon and that even when scaled up to industrially large-dimension production facilities, ensures efficient reaction of raw gases for silicon precipitation and inhibits the occurrence of silicon micropowder and silane oligomer components, thereby realizing long-term industrial production of silicon. In particular, there is provided a tubular reaction vessel having a space surrounded by a vertically extending wall, characterized in that an inflow port for raw gases for silicon precipitation is disposed at an upper part thereof and a precipitated silicon discharge port at a lower end thereof and that flow resistance increase sites are provided on a wall surface of tubular reaction vessel brought into contact with raw gases. The flow resistance increase sites are each at least one selected from among a protrusion, depressed portion and inclination.
L'invention concerne une cuve de réaction qui permet d'éviter une charge de température excessive sur ses composants, activant une chute lisse et une récupération du silicium formé, et qui, même conçue à l'échelle de grandes installations de production industrielle, garantit une réaction efficace de gaz bruts aux fins de la précipitation du silicium, et inhibe la survenue de micropoudre de silicium et de composants oligomères silane, ce qui permet de réaliser une production industrielle de silicium à long terme. Plus précisément, l'invention concerne une cuve de réaction tubulaire ayant un espace entouré d'une paroi s'étendant verticalement, qui se caractérise en ce qu'un orifice d'amenée de gaz bruts destinés à la précipitation du silicium est disposé sur une partie supérieure de celle-ci, et l'orifice d'évacuation du silicium précipité à une extrémité inférieure de celle-ci et que des sites d'augmentation de la résistance à l'écoulement sont installés sur une surface de la paroi de la cuve de réaction venant en contact des gaz bruts. Au moins chacun desdites sites est choisi entre saillie, partie surbaissée et inclinaison.
Nakamura Yasuo
Sugimura Shigeki
Tsujio Kenichi
Wakamatsu Satoru
Macrae & Co.
Tokuyama Corporation
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-2065700