Two piece mirror arrangement for interferometrically...

G - Physics – 01 – B

Patent

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G01B 9/02 (2006.01) G01B 11/00 (2006.01) G01B 11/26 (2006.01) G03F 7/20 (2006.01)

Patent

CA 2296276

For interferometrically determining the X and Y coordinates of a stage, for instance for photolithography equipment, three mirrors are provided in the configuration of two independent rigid bodies. There are two extended main mirrors M1, M2 lying perpendicular to the axis of interest, and a third smaller calibration mirror M3 which is fabricated or fixed at a right angle at the end surface of one of the long mirrors. The orthogonality error between the calibration mirror M3 and the mirror to which it is attached is calibrated, the departure of parallelism with the other mirror is determined.

Les interféromètres à laser à deux axes sont bien connus pour la détermination de la position XY d'une platine, par exemple dans un matériel de photolithographie. Chacune des coordonnées X et Y est mesurée avec une grande précision par réflexion d'un faisceau laser à partir d'une surface réfléchie longue et plate s'étendant perpendiculairement à l'axe intéressant. Au lieu d'utiliser un miroir unique à une pièce possédant deux surfaces réfléchissantes, on dispose trois miroirs dans la configuration de deux corps rigides indépendants; deux miroirs principaux allongés sont formés chacun sur un élément optique séparé et un troisième miroir d'étalonnage plus petit est formé à un angle droit à la surface d'extrémité de l'un des miroirs allongés ou y est lié par adhérence ou retenu de manière mécanique. La relation angulaire entre le miroir d'étalonnage et le miroir auquel il est fixé est rigide et l'erreur d'orthogonalité est étalonnée et enregistrée. Ce miroir d'étalonnage constitue une surface de référence du deuxième miroir allongé auquel il est essentiellement parallèle. En utilisant l'interféromètre dans un mode d'étalonnage, on peut déterminer si le miroir d'étalonnage est parallèle ou non au miroir principal essentiellement parallèle et on peut déterminer ainsi si les deux miroirs principaux sont exactement orthogonaux, et dans le cas contraire, on peut effectuer une correction d'étalonnage. Cette opération permet d'effectuer une mesure précise de la position XY de la platine.

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