C - Chemistry – Metallurgy – 10 – M
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
10
M
C10M 133/06 (2006.01) B01F 17/00 (2006.01) C10M 133/08 (2006.01) C10M 133/16 (2006.01) C10M 173/02 (2006.01)
Patent
CA 2171558
Amphoteric surfactants containing one or more, preferably one or two, monovalent hydrophobic groups forming a hydrophobic portion containing 10-36 carbon atoms; one or more, preferably one or two, primary, secondary or tertiary amine groups; and one or more, preferably one or two, carboxylic groups; and having a molecular weight of less than 1400, or a salt thereof, as a friction reducing agent in a water-base liquid system have been found have a friction reducing effect when added to water-base liquid system like heat transfer system.
Des tensioactifs amphotères, ou un de leurs sels, contiennent un ou plusieurs, de préférence un ou deux, groupe(s) hydrophobe(s) monovalent(s) formant une partie hydrophobe contenant de 10 à 36 atomes de carbone, un ou plusieurs, de préférence un ou deux, groupe(s) amine(s) primaire(s), secondaire(s) ou tertiaire(s), ainsi qu'un ou plusieurs, de préférence un ou deux, groupe(s) carboxylique(s), leur poids moléculaire étant inférieur à 1400. On a constaté que ces tensioactifs utilisés en tant qu'agents réducteurs de friction dans un système liquide à base d'eau présentaient un effet réducteur de friction lorsqu'on les ajoutait à un tel système, comme un système de transfert thermique.
Harwigsson Ian
Hellsten Martin
Berol Nobel Ab
Macrae & Co.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1388567