C - Chemistry – Metallurgy – 07 – F
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
F
C07F 9/00 (2006.01) A61K 31/28 (2006.01) A61K 31/555 (2006.01)
Patent
CA 2072938
PRECIS NOUVEAUX COMPLEXES DE VANADIUM, LEUR PROCEDE DE PREPARATION ET LES COMPOSITIONS PHARMACEUTIQUES QUI LES CONTIENNENT ADIR ET COMPAGNIE 1 RUE CARLE HEBERT 92415 COURBEVOIE CEDEX Composés de formule (I) : (I) Image dans laquelle : R1 ou R4, identiques ou différents, représentent un atome d'hydrogène ou un groupement alkyle, R2 représente un atome d'hydrogène, un groupement alkyle, hydroxyméthyl, -CH2OPO(OH)2 ou -CH2OPO(ONa)2, R3 représente un atome d'hydrogène, un groupement alkyle, hydroxy ou l'un quelconque des groupements suivants : -T-(CH2)n-CO2H , Image , Image dans lesquels : T représente un atome d'oxygène ou de soufre, n représente un entier compris entre 1 et 4, R5 représente un atome d'hydrogène ou un groupement alkyle, X représente un atome d'azote, un radical CH ou un radical CR'3 (dans lequel R'3 a la même signification que R3 à l'exception du cas où R3 représente un groupement hydroxy), A représente un radical alkylène de formule -(CH2)p- dans lequel p représente un entier compris entre 2 et 4, éventuellement substitué par un ou plusieurs groupements alkyles (C1-C4) linéaires ou ramifiés, ou l'un quelconque des radicaux suivants : Image , Image , Image , Y et Z forment ensemble un atome d'oxygène, ou représentent simultanément deux groupements hydroxy et dans ce cas le composé de formule (I) est chargé positivement, leurs isomères ainsi que leurs sels d'addition à un acide ou à une base pharmaceutiquement acceptable. Médicaments.
Duhault Jacques
Lacoste Jean-Michel
Ravel Denis
Adir Et Compagnie
Swabey Ogilvy Renault
LandOfFree
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