Vapor deposition apparatus

Details Vapor deposition apparatus Vapor deposition apparatus

C - Chemistry, Metallurgy

23

C

C23C 16/16 (2006.01) C23C 16/458 (2006.01) C23C 16/46 (2006.01)

Patent

CA 2276000

An apparatus (10) for decomposing and depositing gaseous metal carbonyls on a mandrel (36). A base plate (12) and cover (14) define a inaction chamber (20). A mandrel ring (28), nested within the base plate (12) and insulated therefrom, supports the mandrel (36). Heat transfer fluid flows through the mandrel ring (28) and into the mandrel (36) to maintain the mandrel (36) at a predetermined temperature to initiate thermal decomposition.

L'invention concerne un dispositif (10) permettant de décomposer et de déposer des métaux carbonyle gazeux sur un mandrin (36). Une plaque (12) de base et un élément de couverture (14) délimitent une enceinte (20) de réaction. Un anneau (28) de mandrin, inséré dans la plaque (12) de base et isolée de cette dernière, supporte le mandrin (36). Un fluide caloporteur s'écoule à travers l'anneau (28) de mandrin et dans le mandrin (36) et permet de maintenir le mandrin (36) à une température prédéterminée de façon à amorcer la décomposition thermique.

Affiliated with

Also associated with

Rating

Vapor deposition apparatus does not yet have a rating. At this time, there are no reviews or comments for this patent.

If you have personal experience with Vapor deposition apparatus, we encourage you to share that experience with our LandOfFree.com community. Your opinion is very important and Vapor deposition apparatus will most certainly appreciate the feedback.

Rate now

Comments { 0 }

Profile ID: LFCA-PAI-O-1585836