C - Chemistry – Metallurgy – 23 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
23
C
C23C 16/00 (2006.01) C23C 16/448 (2006.01) C30B 25/14 (2006.01)
Patent
CA 2110647
The vapour generator for chemical vapour deposition plants allows the extraction of metalorganic vapours from liquid or solid sources. It mainly consists of a container into which a gas flows in, and as it passes near the reagent, it is saturated with the vapours produced and transports them to the reaction chamber. Only the generator is brought to a temperature which is higher than room temperature so as to obtain a vapour which is saturated with a high quantity of reagent. To avoid vapour condensation in the pipe system transporting it from the generator to the reaction chamber, it is diluted with a carrier gas directly in the body of the heated generator, reducing in this way the condensation temperature of vapour which becomes unsaturated. For this purpose, the generator contains a dilution bypass-line in the upper base into which the carrier gas is made to flow. The pipe system going from the generator to the reaction chamber can be held at room temperature without any condensation risks.
Le générateur de vapeur pour les usines de dépôt chimique en phase vapeur permet l'extraction de vapeurs organométalliques de sources liquides ou solides. Il est constitué principalement d'un contenant dans lequel est introduit un gaz qui, lorsqu'il passe près du réactif, est saturé avec les vapeurs produites et les transporte dans la chambre de réaction. Seul le générateur est amené à une température plus élevée que la température de la pièce de manière à obtenir une vapeur qui est saturée d'une quantité élevée de réactif. Pour éviter la condensation de la vapeur dans le système de conduites qui l'achemine du générateur à la chambre de réaction, la vapeur est diluée avec un gaz porteur directement dans le corps du générateur chauffé, ce qui réduit la température de condensation de la vapeur qui devient insaturée. € cette fin, le générateur comprend, dans la base supérieure, une conduite de dérivation de dilution dans laquelle on fait circuler le gaz porteur. Le système de conduites allant du générateur à la chambre de réaction peut être gardé à la température de la pièce sans risque de condensation.
Otc - Optical Technologies Center S.r.l.
Ridout & Maybee Llp
LandOfFree
Vapour generator for chemical vapour deposition systems does not yet have a rating. At this time, there are no reviews or comments for this patent.
If you have personal experience with Vapour generator for chemical vapour deposition systems, we encourage you to share that experience with our LandOfFree.com community. Your opinion is very important and Vapour generator for chemical vapour deposition systems will most certainly appreciate the feedback.
Profile ID: LFCA-PAI-O-1556732