C - Chemistry – Metallurgy – 07 – F
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
F
C07F 15/00 (2006.01) C07C 215/08 (2006.01) C07C 251/08 (2006.01) C07F 1/00 (2006.01) C23C 16/00 (2006.01)
Patent
CA 2468434
A series of noble metal organometallic complexes of the general formula (I): MLaXb(FBC)c, wherein M is a noble metal such as iridium, ruthenium or osmium, and L is a neutral ligand such as carbonyl, alkene or diene; X is an anionic ligand such as chloride, bromide, iodide and trifluoroacetate group; and FBC is a fluorinated bidentate chelate ligand such as beta diketonate, beta- ketoiminate, amino-alcoholate and amino-alcoholate ligand, wherein a is an integer of from zero (0) to three (3), b is an integer of from zero (0) to one (1) and c is an 10 integer of from one (1) to three (3). The resulting noble metal complexes possess enhanced volatility and thermal stability characteristics, and are suitable for chemical vapor deposition(CVD) applications. The corresponding noble metal complex is formed by treatment of the FBC ligand with a less volatile metal halide. Also disclosed are CVD methods for using the noble metal complexes as source reagents for deposition of noble metal-containing films such as Ir, Ru and Os, or even metal oxide film materials IrO2, OsO2 and RuO2.
L'invention concerne une série de complexes organométalliques de métaux nobles représentés par la formule ML¿a?X¿b?(FBC)¿c? (I), dans laquelle M est un métal noble tel que iridium, ruthénium ou osmium, et L est un ligand neutre tel que carbonyle, alcène ou diène ; X est un ligand anionique tel que chlorure, bromure, iodure et le groupe trifluoroacétate ; et FBC est un ligand de bidentate chélate fluoré tel qu'un ligand de béta-dicétonate, béta-cétoiminate, alcoolate aminé, a étant un entier compris entre zéro (0) et trois (3), b un entier compris entre zéro (0) et un (1) et c un entier compris entre un (1) et trois (3). Les complexes de métaux nobles obtenus présentent des propriétés de volatilité et de stabilité thermique améliorées, et conviennent dans les applications de dépôt chimique en phase vapeur (CVD). Le complexe de métaux nobles correspondant est formé par traitement du ligand de FBC avec un halogénure métallisé moins volatile. L'invention porte aussi sur des procédés CVD afin d'utiliser les complexes de métaux nobles en tant réactifs sources pour le dépôt de films contenant des métaux nobles tels que Ir, Ru et Os, voire des matériaux de films en oxyde métallique IrO¿2?, OsO¿2 ?et RuO¿2?.
Carty Arthur J.
Chen Yao-Lun
Chi Yun
Lai Ying Hui
Liu Chao-Shiuan
Anderson J. Wayne
National Research Council Of Canada
National Tsing Hua University
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1409530