Water-less lithographic plates

Details Water-less lithographic plates Water-less lithographic plates

G - Physics

03

F

G03F 7/004 (2006.01) G03F 7/075 (2006.01)

Patent

CA 2229536

There is described a method of preparing a water-less lithographic plate which comprises a support having an oleophilic surface, there being coacted on the support a mixture which comprises as one component an ink-repellant and water- repellant polymer or a mixture of such polymers or a polymer precursor, and as the other essential component of the mixture a photosensitive or heat sensitive composition selected from a) an organic solvent soluble diazo composition which is either light or heat sensitive, b) a photopolymer together with a sensitiser which is either light or heat sensitive or c) a mixture of a free-radically polymerisable ethylenically unsaturated compound or compounds and a photoinitiator which is either heat or light sensitive, the ratio of ink-repellant polymer to photosensitive or heat sensitive composition a), b), or c) in the mixture being from 20-80 ink-repellant polymer to 80-20 photosensitive or heat sensitive composition by weight, imagewise acting on exposing the coated mixture, developping the acted on mixture with the appropriate developing solution depending on the composition a), b), c) used to remove the composition and the water-repellant polymer in the unacted-on areas to reveal the oleophilic surface of the support in the unacted-on areas of the plate and leaving the acted on areas of the plate.

Cette invention concerne un procédé de préparation d'une plaque lithographique ne nécessitant pas d'apport d'eau, ladite plaque comportant un support ayant une surface oléophile recouverte d'un mélange contenant d'une part, comme premier composant, un polymère repoussant l'encre et l'eau ou un mélange de polymères de ce type ou encore un précurseur de polymère et d'autre part, comme second composant essentiel du mélange, une composition sensible à la lumière ou à la chaleur sélectionnée parmi a) une composition organique diazo soluble dans un solvant qui est sensible à la lumière ou à la chaleur, b) un photopolymère associé à un sensibilisateur qui est sensible à la lumière ou à la chaleur ou c) un mélange d'un (ou de plusieurs) composé(s) éthyléniquement insaturé(s) susceptible(s) de subir une polymérisation radicalaire et d'un photoamorceur qui est sensible à la lumière ou à la chaleur, le rapport entre le polymère repoussant l'encre et la composition sensible à la lumière ou à la chaleur a), b) ou c) du mélange étant de 20 à 80 % en poids de polymère repoussant l'encre et de 80 à 20 % en poids de composition sensible à la lumière ou à la chaleur. Ledit procédé consiste à agir sur toute l'image en exposant le mélange enduit, à développer le mélange sur lequel on a agi avec la solution de développement appropriée, choisie en fonction du type de composition a), b) ou c) utilisée, à retirer cette composition et le polymère repoussant l'eau au niveau des zones non traitées pour révéler la surface oléophile du support des zones non traitées de la plaque et à laisser les zones traitées de la plaque telles quelles.

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