C - Chemistry – Metallurgy – 08 – L
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
08
L
C08L 83/04 (2006.01) C08J 9/28 (2006.01) C09D 5/25 (2006.01) C09D 7/12 (2006.01) C09D 183/04 (2006.01) H01L 21/312 (2006.01) H01L 21/768 (2006.01) H01L 23/522 (2006.01)
Patent
CA 2720276
Disclosed is a composition comprising a hydrolysate of an alkoxysilane compound, a hydrolysate of a siloxane compound represented by Formula (1), a surfactant, and an element having an electronegativity of 2.5 or less. In Formula (1), R A and R B independently represent a hydrogen atom, a phenyl group, -C a H2a+1, -(CH2)b(CF2)c CF3 or -C d H2d-1, R A and R B are not both hydrogen atoms simultaneously, R C and R D independently represent a single bond that links a silicon atom and an oxygen atom to form a cyclic siloxane structure, or each independently represent a hydrogen atom, a phenyl group, -C a H2a+1, - (CH2)b(CF2)c CF3, or -C d H2d-1, a represents an integer of 1 to 6, b represents an integer of 0 to 4, c represents an integer of 0 to 10, d represents an integer of 2 to 4, and n represents an integer of 3 or greater. (see formula 1)
La composition ci-décrite comprend un hydrolysat d'un composé d'alcoxysilane, un hydrolysat d'un composé de siloxane représenté par la formule générale (1), un tensioactif, et un élément ayant une électronégativité de 2,5 ou moins. Dans la formule générale (1), RA et RB représentent, indépendamment, un atome d'hydrogène, un groupe phényle, un groupe -CaH2a+1, un groupe -(CH2)b(CF2)cCF3 ou un groupe -CdH2d-1, à condition que RA et RB ne représentent pas tous deux simultanément un atome d'hydrogène ; RC et RD représentent, indépendamment, une liaison simple capable de lier un atome de silicium à un atome d'oxygène pour former une structure siloxane cyclique ou représentent, indépendamment, un atome d'hydrogène, un groupe phényle, un groupe -CaH2a+1, un groupe -(CH2)b(CF2)cCF3 ou un groupe -CdH2d-1 ; a représente un nombre entier de 1 à 6 ; b représente un nombre entier de 0 à 4 ; c représente un nombre entier de 0 à 10 ; d représente un nombre entier de 2 à 4 ; et n représente un nombre entier de 3 ou plus.
Kohmura Kazuo
Tanaka Hirofumi
Mitsui Chemicals Inc.
Smart & Biggar
LandOfFree
Composition and method for production thereof, porous... does not yet have a rating. At this time, there are no reviews or comments for this patent.
If you have personal experience with Composition and method for production thereof, porous..., we encourage you to share that experience with our LandOfFree.com community. Your opinion is very important and Composition and method for production thereof, porous... will most certainly appreciate the feedback.
Profile ID: LFCA-PAI-O-1358829