C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 487/08 (2006.01) A61K 31/497 (2006.01) A61K 31/4995 (2006.01) A61K 31/506 (2006.01) A61K 45/08 (2006.01) A61P 35/00 (2006.01) A61P 43/00 (2006.01)
Patent
CA 2650572
Disclosed is a compound represented by the general formula (I) or a pharmaceutically acceptable salt or ester thereof: (I) wherein n1 and n2 independently represent 0 or 1; R represents an aryl group, a heteroaryl group or the like; Re represents a hydrogen atom or a lower alkyl group; two groups selected from the group consisting of the four groups (i) to (iv) below together form a group ~(CH2)n- [wherein n represents 1, 2 or 3]: (i) one of Ra1 and Ra1', (ii) one of Ra2 and Ra2', (iii) one of Rb1 and Rb1', and (iv) one of Rb2 and Rb2', and groups not involved in the formation of the group ~(CH2)n- among Ra1, Ra1', Ra2, Ra2', Rb1, Rb1', Rb2 and Rb2' independently represent a hydrogen atom or the like; Rc, Rd and Re independently represent a hydrogen atom or the like; X1, X2, X3 and X4 independently represent CH, N or the like; Y1, Y2 and Y3 independently represent CH or N; and W represents a 5-membered aromatic heterocyclic ring.
La présente invention concerne un composé représenté par la formule générale (I) ou un de ses sels ou esters pharmaceutiquement acceptable : (I) dans laquelle n1 et n2 représentent indépendamment 0 ou 1; R représente un groupe aryle, un groupe hétéroaryle ou un groupe similaire; Re représente un atome d'hydrogène ou un groupe alkyle inférieur; deux groupes choisis dans le groupe comprenant les quatre groupes (i) à (iv) ci-dessous forment ensemble un groupe ~(CH2)n- [dans lequel n représente 1, 2 ou 3] : (i) un des deux groupes Ra1 et Ra1', (ii) un des deux groupes Ra2 et Ra2', (iii) un des deux groupes Rb1 et Rb1', et (iv) un des deux groupes Rb2 et Rb2', et des groupes ne participant pas à la formation du groupe ~(CH2)n- parmi Ra1, Ra1', Ra2, Ra2', Rb1, Rb1', Rb2 et Rb2' représentent indépendamment un atome d'hydrogène ou un groupe similaire; Rc, Rd et Re représentent indépendamment un atome d'hydrogène ou un groupe similaire; X1, X2, X3 et X4 représentent indépendamment CH, N ou un groupe similaire; Y1, Y2 et Y3 représentent indépendamment CH ou N; et W représente un noyau hétérocyclique aromatique à 5 chaînons.
Kato Tetsuya
Kawanishi Nobuhiko
Mita Takashi
Nagai Keita
Nonoshita Katsumasa
Banyu Pharmaceutical Co. Ltd.
Msd K.k.
Ogilvy Renault Llp/s.e.n.c.r.l.,s.r.l.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1503770