High reflectivity and high flux x-ray optic element and...

C - Chemistry – Metallurgy – 23 – C

Patent

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Details

C23C 16/455 (2006.01) B05D 7/22 (2006.01) G21K 1/06 (2006.01)

Patent

CA 2492890

This invention relates to a method of forming multiple bilayers on a substrate using an atomic layer deposition process. The reflecting layer of the bilayer pair can be a high electron density metal and the spacing layer of the bilayer pair can be a low electron density material. Because atomic layer deposition can deposit atomic layer controlled and conformal films, multiple bilayers can be deposited on the internal surfaces of monocapillary tubes. By applying a graded multiple bilayer, much higher reflectivity and higher flux optical elements can be obtained than those based on total external reflection. Deposition of a graded multiple bilayer on an elliptic or parabolic tapered tube leads to focused or collimated output from a point source input. Various atomic, layer deposition techniques are described to produce the graded multiple bilayer high quality X-ray focusing devices, especially for "hard" X- ~rays.

L'invention se rapporte à un procédé de formation de bicouches multiples sur un substrat utilisant un procédé de dépôt de couche atomique. La couche réfléchissante de la paire de bicouches peut être un métal à haute densité d'électrons et la couche d'espacement de la paire de bicouches peut être une matière à faible densité d'électrons. Du fait que le dépôt de couche atomique peut déposer des films enrobants et à coche atomique contrôlée, on peut déposer de multiples bicouches sur les surfaces internes de tubes monocapillaires. En appliquant une bicouche multiple superposée, on peut obtenir des éléments optiques à réflectivité et flux plus élevés que ceux utilisant une réflexion externe totale. Le dépôt d'une bicouche multiple superposée sur un tube conique elliptique ou parabolique donne lieu à une sortie focalisée ou collimatée provenant d'une entrée source ponctuelle. L'invention se rapporte également à différentes techniques de dépôt de couche atomique permettant d'obtenir des dispositifs de focalisation à rayons X de qualité présentant une bicouche multiple superposée, plus précisément pour des rayons X <= durs >=.

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