C - Chemistry – Metallurgy – 08 – L
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
08
L
C08L 57/00 (2006.01) C08F 2/50 (2006.01) C08K 5/10 (2006.01) C08K 5/5419 (2006.01) C09D 4/00 (2006.01) C09D 7/06 (2006.01)
Patent
CA 2417112
Compounds of formula (I) in which r is a number 1 or 2; s is a number from 1 to 1000; R is radical of formula (II); or R is, for example, unsubstituted or substituted naphthyl, anthracyl, phenanthryl or a heterocyclic radical; R1, R2, R3, R4 and R5 independently of one another are, for example hydrogen; unsubstituted or substituted phenyl or C1-C12alkyl; A, if s is 1, is a surface- active radical of formula (III); or A, if s is 1, is a surface-active radical A0; or A, if s is a number greater than 1, is a radical of the formula (III) in which n corresponds to the number s, or A, if s is 2, is a radical A1; A0 is, for example, in each case unsubstituted or substituted C6-C30alkyl, C6- C30alkenyl, C6-C30alkynyl or C6-C30aralkyl; A1 is, for example, in each case unsubstituted or substituted C6-C30alkylene, C6-C30alkenylene, C6- C30alkynylene or C6-C30aralkylene; n is, for example, a number from 1 to 1000; m is a number from 0 to 100; p is a number 0-10000; x is a number from 1 to 10; Y, if r is 1, is a divalent group and Y, if r is 2, is a trivalent group, and Y, if A has the definition A0, is a single bond; G1, G2, R13, R14, R15, R16, R17, R18, R19, R20, R21 and R22 are, for exmple, C1-C18alkyl; are particularly suitable as photoinitiators which accumulate at the surface in a process for curing coatings.
Cette invention concerne des composés de la formule (I) dans laquelle r est 1 ou 2; s est un nombre compris entre 1 et 1000; R est un radical de la formule (II); ou R est, par exemple, naphtyle insubstitué ou substitué, anthracyle, phénanthryle ou un radical hétérocyclique; R¿1?, R¿2?, R¿3?, R¿4? et R¿5? sont, indépendamment les uns des autres, par exemple, hydrogène, phényle insubstitué ou substitué ou alkyle C¿1?-C¿12?; A, s'il est 1, est un radical tensioactif de la formule (III); ou A, s'il est 1, est un radical tensioactif A¿0?; ou A, s'il est un nombre supérieur à 1, est un radical de la formule (III) dans laquelle n correspond au nombre s; ou A, s'il est 2, est un radical A¿1?; A¿0? est, par exemple, dans chaque cas, alkyle C¿6?-C¿30? insubstitué ou substitué, alcényle C¿6?-C¿30?, alkynyle C¿6?-C¿30? ou aralkyle C¿6?-C¿30?; A¿1? est, par exemple, dans chaque cas, alkylène C¿6?-C¿30? insubstitué ou substitué, alcénylène C¿6?-C¿30?, alkynylène C¿6?-C¿30? ou aralkylène C¿6?-C¿30?; n est, par exemple, un nombre compris entre 1 et 1000; m est un nombre compris entre 0 et 100; p est un nombre compris entre 0 et 10000; x est un nombre compris entre 1 et 10; Y, si r est 1, est un groupe divalent, et Y, si r est 2, est un groupe trivalent, et Y, si A est défini comme A¿0?, est une liaison simple; G¿1?, G¿2?, R¿13?, R¿14?, R¿15?, R¿16?, R¿17?, R¿18?, R¿19?, R¿20?, R¿21? et R¿22? sont, par exemple, alkyle C¿1?-C¿18?. Ces composés conviennent particulièrement comme photoamorceurs qui s'accumulent à la surface dans un procédé de polymérisation de revêtements.
Baudin Gisele
Jung Tunja
Ciba Specialty Chemicals Holding Inc.
Fetherstonhaugh & Co.
LandOfFree
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