High throughput physical vapor deposition system for...

B - Operations – Transporting – 01 – J

Patent

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B01J 37/02 (2006.01) C23C 14/32 (2006.01) C23C 16/00 (2006.01) C40B 60/14 (2006.01)

Patent

CA 2551722

An infinitely variable physical vapor deposition matrix system that allows the synthesis of multiple combinatorial catalyst samples at essentially the same time, by the co-deposition of multiple materials, or the sequential layer by layer deposition of multiple catalyst constituents, or both, such that the optimum mix of materials for a pre-determined application can be experimentally determined in subsequent testing. The discovery of optimal catalyst combinations for utilization in specified reactions and devices is facilitated. The high throughput system reduces the time and complexity of processing typically required to formulate and test combinatorial catalyst materials.

La présente invention concerne un système matriciel de dépôt physique en phase vapeur permettant de réaliser la synthèse de plusieurs échantillons catalytiques combinatoires presque au même moment, par dépôt simultané de plusieurs matériaux, ou par dépôt séquentiel couche par couche de plusieurs constituants catalytiques, ou les deux, de telle sorte que le mélange optimal de matériaux pour une application prédéterminée puisse être déterminé de manière expérimentale lors d'essais ultérieurs. Ce mode de réalisation permet de faciliter la découverte de combinaisons catalytiques optimales pour une utilisation dans des réactions et des dispositifs spécifiques. Le système haut rendement permet de réduire le durée et la complexité du traitement typiquement requis pour préparer et tester des matériaux catalytiques combinatoires.

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