C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 335/02 (2006.01) A61K 31/38 (2006.01) A61K 31/385 (2006.01) A61K 31/44 (2006.01) A61P 29/00 (2006.01) A61P 31/18 (2006.01) C07D 333/48 (2006.01) C07D 339/08 (2006.01) C07D 409/04 (2006.01) C07D 409/12 (2006.01) C07D 409/14 (2006.01)
Patent
CA 2357874
A compound of formula (I) in which R1 is lower alkyl, halogen, optionally substituted heterocyclic group or optionally substituted aryl, R2 is carboxy, protected carboxy or amidated carboxy, Ar is optionally substituted aryl or optionally substituted heterocyclic group, A is lower alkylene, X is oxa or a single bond, Y is thia, sulfinyl or sulfonyl, Z is methylene, thia, sulfinyl or sulfonyl, m and n are each an integer of 0 to 6, and 1<=m+n<=6, or its salt, which is useful as an inhibitor of matrix metalloproteinases (MMP) or tumor necrosis factor .alpha. (TNF .alpha.).
Composé de formule (I) dans laquelle R?1¿ représente alkyle inférieur, halogène, un groupe hétérocyclique éventuellement substitué ou aryle éventuellement substitué, R?2¿ représente carboxy, carboxy protégé ou carboxy amidé, Ar représente aryle éventuellement substitué ou un groupe hétérocyclique éventuellement substitué, A représente alkylène inférieur, X représente oxa ou une liaison unique, Y représente thia, sulfinyle ou sulfonyle, Z représente méthylène, thia, sulfinyle ou sulfonyle, m et n sont chacun un nombre entier de 0 à 6, et 1<=m+n<=6, ou son sel, qui est utile en tant qu'inhibiteur de métalloprotéinases matricielles (MMP) ou du facteur de nécrose tumorale .alpha. (TNF .alpha.).
Hosoi Kumi
Imamura Yoshimasa
Neya Masahiro
Sato Kentaro
Setoi Hiroyuki
Fujisawa Pharmaceutical Co. Ltd.
Ogilvy Renault Llp/s.e.n.c.r.l.,s.r.l.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1633676