H - Electricity – 01 – M
Patent
H - Electricity
01
M
H01M 8/02 (2006.01) H01M 8/10 (2006.01)
Patent
CA 2740843
Provided is a sealing structure using a gasket integrally formed with a separator arranged at both sides of an MEA in the thickness direction thereof via a GDL so as to sandwich the MEA. This structure can effectively prevent deformation of the MEA or shift of the GDL. A first GDL, a second GDL, and the separator are successively layered at both sides of the MEA in the thickness direction thereof. The gasket used for sandwiching the end portion of the MEA outside the first GDL and the second GDL is made from rubber or synthetic resin having rubber-like elasticity and integrally provided with the separators. The first GDL has an end portion which is formed so as to protrude from the external circumference of the second GDL and which can be positioned on the gasket. Formed also is a stepped support portion which can be supported at the same height as the support height of the second GDL.
L'invention porte sur une structure d'étanchéité mettant en uvre un joint formé d'un seul tenant avec un séparateur agencé au niveau des deux côtés d'un ensemble membrane-électrode (MEA) dans la direction d'épaisseur de celui-ci avec intercalation d'une couche de diffusion de gaz (GDL) de façon à intercaler le MEA. Cette structure peut efficacement empêcher une déformation du MEA ou un décalage de la GDL. Une première GDL, une seconde GDL et le séparateur sont successivement stratifiés au niveau des deux côtés du MEA dans la direction d'épaisseur de celui-ci. Le joint utilisé pour intercaler la partie d'extrémité du MEA à l'extérieur de la première GDL et de la seconde GDL est fait de caoutchouc ou de résine synthétique dont lélasticité est de type caoutchouc et il est formé d'un seul tenant avec les séparateurs. La première GDL a une partie d'extrémité qui est formée de façon à dépasser de la périphérie externe de la seconde GDL et qui peut être positionnée sur le joint. Une partie de support à échelon est également formée, laquelle peut être supportée à la même hauteur que la hauteur de support de la seconde GDL.
Shigeru Watanabe
Toshihiro Shimazoe
Yoshihiro Kurano
Blake Cassels & Graydon Llp
Nok Corporation
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1673999