C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 239/94 (2006.01) A61K 31/517 (2006.01) A61P 1/16 (2006.01) A61P 3/00 (2006.01) A61P 3/10 (2006.01) A61P 5/00 (2006.01) A61P 5/16 (2006.01) A61P 7/00 (2006.01) A61P 13/12 (2006.01) A61P 17/04 (2006.01) A61P 25/00 (2006.01) A61P 25/08 (2006.01) A61P 25/18 (2006.01) A61P 27/14 (2006.01) A61P 31/10 (2006.01) A61P 35/00 (2006.01) A61P 37/06 (2006.01) C07D 401/12 (2006.01) C07D 401/14 (2006.01) C07D 403/12 (2006.01) C07D 405/12 (2006.01) C07D 405/14 (2006.01) C07D 413/12 (2006.01) C07D 413/14 (2006.01)
Patent
CA 2624141
It is intended to provide a novel quinazoline derivative with less skin irritancy and an excellent action of strongly suppressing scratching behavior and a pharmaceutical composition containing the quinazoline derivative as an active ingredient. The invention is directed to the quinazoline derivative represented by the general formula [1] or a pharmaceutically acceptable salt thereof. R1 represents hydrogen or the like, R2 represents hydrogen or the like, R3 and R4 are the same or different and represent hydrogen, alkyl, alkoxy or halogen, R5 represents alkylene together with R6 or represents hydrogen, hydroxy, alkyl, phenyl or alkoxy, R6 represents (1) alkyl, (2) cycloalkyl, (3) phenyl, (4) a 5- to 10-membered aromatic heterocyclic group with 1 to 3 heteroatoms selected from the group consisting of a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom, or (5) -N(R61)(R62).
La présente invention concerne un nouveau dérivé de la quinazoline moins irritant pour la peau et permettant de supprimer fortement le grattement, ainsi qu'une composition pharmaceutique contenant le dérivé de quinazoline en tant qu~ingrédient actif. L~invention concerne le dérivé de quinazoline représenté par la formule générale [1] ou un sel de celui-ci acceptable sur le plan pharmaceutique. R1 représente de l~hydrogène ou un élément analogue, R2 représente de l~hydrogène ou un élément analogue, R3 et R4 sont analogues ou différents et représentent de l'hydrogène, un alkyle, un alkoxy ou un halogène, R5 représente un alkylène avec R6 ou représente de l~hydrogène, de l~hydroxy, un alkyle, un phényle ou un alkoxy, R6 représente (1) un alkyle, (2) un cycloalkyle, (3) un phényle, (4) un groupe hétérocyclique aromatique comprenant de 5 à 10 éléments avec 1 à 3 hétéroatomes sélectionnés dans le groupe constitué par un atome d~azote, un atome d~oxygène et un atome de soufre ou (5) -N(R61)(R62).
Okano Masahiko
Oyama Tatsuya
Fetherstonhaugh & Co.
Nippon Shinyaku Co. Ltd.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1676948