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C - Chemistry – Metallurgy – 08 – G

Patent

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C08G 65/28 (2006.01) B01F 17/00 (2006.01) C08L 67/08 (2006.01) C08L 71/02 (2006.01) C09D 5/02 (2006.01) C09D 167/08 (2006.01) C09D 171/02 (2006.01)

Patent

CA 2547794

A compound of the formula R1. [(AO)n.-R2]m (I) where: R1 is the residue of a group having at least m active hydrogen atoms; AO is an alkylene oxide residue; each n is independently from 1 to 100; m is at least 2; and each R2 is independently H, a C1 to C21 hydrocarbyl, or an acyl group -OC.R3, where R3 is a C1 to C21 hydrocarbyl group, wherein on average greater than one of the R2 groups is or comprises a C4 to C21 hydrocarbyl group comprising at least two ethylenic double bonds. The compounds are particularly suitable for use in preparing aqueous emulsions or dispersions of resins and polymers, especially alkyd resins.

L'invention porte sur un composé de formule R?1¿. [(AO)¿n?.-R?2¿]¿m? (I) dans laquelle: R?1¿ est le résidu d'un groupe ayant au moins m atomes d'hydrogène actif; AO est un résidu d'oxyde d'alkylène; chaque n représente, indépendamment, un nombre de 1 à 100; m représente au moins 2; et chaque R?2¿ représente, indépendamment, H, un hydrocarbyle C¿1? à C¿21? ou un groupe acyle -OC.R?3¿, dans lequel R?3¿ représente un groupe hydrocarbyle C¿1? à C¿21?, une moyenne supérieure à l'un des groupes R?2¿ représentant ou comprenant un groupe hydrocarbyle C¿4? à C¿21? comprenant au moins deux liaisons doubles éthyléniques. Les composés sont notamment appropriés pour être utilisés dans la préparation d'émulsions ou de dispersions aqueuses de résines et de polymères, en particulier des résines alkydes.

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