C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 251/34 (2006.01) C08G 18/02 (2006.01) C08G 18/38 (2006.01) C08G 18/67 (2006.01) C08G 18/78 (2006.01)
Patent
CA 2045941
oligomères de formule : (see above formula) (1) au moins un A = -CH2CHR1COODOH (a) (R1 = H, CH3 et D = alkylène en C1-C4), les autres A = H ou alkyle en C1-C4, au moins une partie des restes (a) pouvant être transformée en A1 = -CH2CHR1COODOCONHD1NCO (D1 = reste organique divalent), au moins une partie des restes A1 pouvant être transformée en A2 = -CH2CHR1COODOCONHD1NHCOOR2 (R2 = radical monovalent obtenu par élimination de l'OH d'un monoalcool contenant un groupe vinylidène); (2) au moins un A = -D2OCONHD'1NHCOOR'2 (b) où D2 = alkylène en C1-C4 ou -D3-(-O-D3-)n-, avec D3 = alkylène en C1-C4, et n = 1-12 ; D'1 analogue à D1 ; R'2 analogue à R2 ; le ou les autres restes A représentant -D2OCONHD'1NCO. Ces oligomères sont destinés notamment à être copolymérisés sous rayonnement ultraviolet dans un diluant réactif et en présence d'un initiateur, de manière à former des (co)polymères possédant une bonne dureté et une bonne résistance thermique, utilisables dans le domaine des revêtements, encres et adhésifs photopolymérisables.
Grosius Paul
Vanhoye Didier
Atochem
Ogilvy Renault Llp/s.e.n.c.r.l.,s.r.l.
LandOfFree
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