C - Chemistry – Metallurgy – 23 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
23
C
C23C 14/35 (2006.01) C23C 14/08 (2006.01) C23C 14/58 (2006.01)
Patent
CA 2727650
The invention relates to a method for producing a transparent and conductive metal oxide layer on a substrate, wherein at least one component of the metal oxide layer is atomized by highly ionized, high power pulsed magnetron sputtering and condenses on the substrate, the pulses of the magnetron having a peak power density of more than 1.5 kW/cm2, the pulses of the magnetron having a duration of <= 200 µs, and the average increase in current density during ignition of the plasma within an interval, which is <= 0.025 ms, being at least 106 A/(ms cm2).
L'invention concerne un procédé pour la production d'une couche d'oxyde métallique transparente et conductrice sur un substrat. Selon ce procédé, au moins un constituant de la couche d'oxyde métallique est pulvérisé par pulvérisation magnétron pulsée hautement ionisante de forte puissance et est condensé sur le substrat. Le procédé selon l'invention est caractérisé en ce que les impulsions du magnétron présentent une densité de puissance de crête supérieure à 1,5 kW/cm2, en ce que les impulsions du magnétron ont une durée inférieure ou égale à 200 µs et en ce que l'augmentation moyenne de densité du flux de courant à l'amorçage du plasma est d'au moins 106 A/(ms cm2) à l'intérieur d'un intervalle de temps inférieur ou égal à 0,025 ms.
Horstmann Felix
Sittinger Volker
Szyszka Bernd
Fraunhofer Gesellschaft Zur Foerderung Der Angewandten Foerschun
Norton Rose Or S.e.n.c.r.l. S.r.l./llp
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1963423