Process and apparatus for spraying and application to a...

B - Operations – Transporting – 01 – F

Patent

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Details

B01F 3/06 (2006.01) B05B 7/14 (2006.01)

Patent

CA 2565771

Du gaz sous pression est admis à travers un orifice (26) formé à la partie inférieure d'un réservoir (22) de produit en poudre (24) et guidé dans un tube interne (32) raccordé à l'orifice d'admission, le tube traversant le produit en poudre stocké dans le réservoir pour entraîner de la poudre à travers des ouvertures (32b) formées dans la paroi du tube, la poudre étant extraite sous forme d'un flux gaz-poudre à travers une sortie (30) à la partie supérieure du réservoir. Le mélange de gaz et de poudre parcourant le tube interne (32) est guidé jusqu'à la partie supérieure du réservoir et est dirigé sensiblement vers une paroi latérale du réservoir de manière à établir un courant de flux gaz-poudre parcourant le volume (34) situé dans le réservoir au-dessus du matériau en poudre (24) stocké dans le réservoir, avant extraction du flux gaz--poudre à travers la sortie. Le flux gaz-poudre peut être acheminé à une ou plusieurs buses de pulvérisation, par exemple pour un système de pulvérisation de produit révélateur dans une installation de détection de défauts de surface par ressuage.

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Profile ID: LFCA-PAI-O-1969161

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