H - Electricity – 01 – J
Patent
H - Electricity
01
J
H01J 37/32 (2006.01)
Patent
CA 2391911
The plasma processing apparatus comprises a plasma chamber (1) bounded, on at least one side thereof, by an electrically conductive wall (10), said electrically conductive wall comprising one or several apertures (100) for interrupting a current path through said wall, external electromagnetic means (2) for supplying electro-magnetic energy into the plasma chamber through the electrically conductive wall, thereby generating a plasma inside said chamber, and sealing means for sealing the apertures. The apparatus is characterised in that the sealing means comprises one or more electrically conductive enclosure elements (16) which are electrically insulated from the electrically conductive wall.
Selon l'invention, l'appareil de traitement au plasma comprend une chambre de plasma (1) liée sur au moins un côté par une paroi conductrice d'électricité (10), cette paroi conductrice d'électricité comprenant une ou plusieurs ouvertures (100) pour interrompre une voie de courant à travers ladite paroi, un système électromagnétique externe (2) destiné à alimenter la chambre à plasma avec de l'énergie électromagnétique à travers la paroi conductrice d'électricité et à générer ainsi du plasma à l'intérieur de cette chambre et, enfin, un système d'étanchéité destiné à rendre les ouvertures étanches. L'appareil est caractérisé en ce que le système d'étanchéité comprend un ou plusieurs éléments d'enceinte conducteurs d'électricité (16) qui sont électriquement isolés de la paroi conductrice d'électricité.
Colpo Pascal
Rossi Francois
European Community (ec)
Robic
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-2070379