C - Chemistry – Metallurgy – 07 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
C
C07C 233/87 (2006.01) A61K 31/166 (2006.01) A61K 31/343 (2006.01) A61K 31/381 (2006.01) C07D 209/42 (2006.01) C07D 307/78 (2006.01) C07D 307/84 (2006.01) C07D 333/50 (2006.01) C07D 333/68 (2006.01)
Patent
CA 2493789
Anthranylic compounds having anti-CCK activity of general formula (I) in which, n is a whole number lying between 0 and 7; R1 is chosen independently from the groups (II), in which X1 is chosen independently from, S, O, NR2 and X2 is a group chosen from: H, C1-C4 alkyl, F, Cl, CF3, OCH3, OC2H5, CN; R2 is chosen from H or CH3; R3 is chosen from H, CH3, F, Cl, CF3, OCH3; R4 is chosen from the groups: H, -S-(CH2)m-R5, -SO2- (CH2)m-R5 (n different from 0), a branched alkyl group, a cyclo alkyl, a cyclo alkenyl, the group 1 or 2 adamantile, a phenyl group optionally substituted; R5 is chosen from the groups: H, linear or branched alkyl, cyclo alkyl, the group 1 or 2 adamantile, a suitably substituted phenyl group.
L'invention porter sur des composés anthranyliques, ayant une activité anti-CCK, de formule générale (I) dans laquelle n est un nombre entier compris entre 0 et 7; R¿1? est sélectionné indépendamment des groupes (II) dans lesquels X¿1? est sélectionné indépendamment de S, O, NR¿2? et X¿2? est un groupe sélectionné parmi: H, C¿1?-C¿4? alkyle, F, Cl, CF¿3?, OCH¿3?, OC¿2?H¿5?, CN; R¿2? est sélectionné parmi H ou CH¿3?; R¿3? est sélectionné parmi H, CH¿3?, F, Cl, CF¿3?, OCH¿3?; R¿4? est sélectionné parmi les groupes: H, -S-(CH¿2?)m-R¿5?, -SO¿2?- (CH¿2?)m-R¿5? (n différent de 0),un groupe alkyle ramifié, un cycloalkyle, un cycloalcényle, le groupe adamantile 1 ou 2, un groupe phényle éventuellement substitué; R¿5? est sélectionné parmi les groupes: H, alkyle linéaire ou ramifié, cycloalkyle, le groupe adamantile 1 ou 2, un groupe phényle subsitué de façon appropriée.
Lassiani Lucia
Makovec Francesco
Rovati Lucio Claudio
Varnavas Antonio
Macrae & Co.
Rottapharm S.p.a.
LandOfFree
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