C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
260/271.3
C07D 513/04 (2006.01) C07D 217/02 (2006.01) C07D 217/16 (2006.01) C07D 217/26 (2006.01)
Patent
CA 1073909
PRECIS DE LA DIVULGATION: La présente invention concerne des nouveaux dérivés de l'isoquinoléine, de formule (I) Image (I) dans laquelle: A représente le radical pyridyl-4 ou isoquinolyl-5 et X1, X2, X3 représentent des atomes d'hydrogène, ou A représente le radical pyridyl-3 et X1 = hydrogène, chlore, fluor, diméthylamino ou cyano X2 = hydrogène ou fluor X3 = hydrogène ou nitro (deux au moins des symboles X1, X2 et X3 représentant des atomes d'hydrogène) ou X1 et X2 forment ensemble un radical méthylènedioxy et X3 est un atome d'hydrogène, leur formes (R) et (S) et leurs mélanges, leurs sels, leur préparation et les compositions qui les contiennent. Ces nouveaux composés sont particulièrement utiles comme analgésiques et antither- miques.
258441
Farge Daniel
Jossin Alain
Ponsinet Gerard
Reisdorf Daniel
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-883096