C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 401/06 (2006.01) A61K 31/4709 (2006.01) C07D 409/14 (2006.01)
Patent
CA 2520764
The invention concerns 4-substituted quinoline derivatives active as antimicrobial agents, of general formula (I), wherein: X1, X2, X3, X4 and X5 respectively represent >C-R'1 to >C-R'5, or not more than one represents N; Y represents CHR, CO, CROH, CRNH2, CRF or CF2, R being hydrogen or alkyl; m is 1, 2, or 3 and n is 0, 1 or 2; Z is CH2 or Z represents O, S, SO, SO2 and, in that case, n is equal to 2; R2 represents -CO2R, -CH2CO2R, -CH2-CH2CO2R, - CH2OH or -CH2-CH2OH, R being as defined above; R3 represents phenyl, heteroaryl or alk-R~3, wherein alk is an alkyl and R~3 represents various groups, optionally oxygenated, sulphured or aminated, in their enantiomeric or diastereoisomeric forms or mixtures thereof, and optionally in their syn or anti forms or mixtures thereof, as well as their salts.
L'invention concerne des dérivés de quinoléines-4-substituées de formule générale : qui sont actifs comme anti-microbiens, dans laquelle : X¿1?, X¿2?, X¿3?, X¿4? et X¿5? représentent respectivement >C-R'¿1? à >C-R'¿5?, ou bien l'un au plus représente N, Y représente CHR, CO, CROH, CRNH¿2?, CRF ou CF¿2?, R étant Hydrogène ou alcoyle, m est 1, 2 ou 3 et n est 0,1 ou 2, Z est CH¿2? ou Z représente O, S, SO, SO¿2? et, dans ce cas, n est égal à 2, R¿2? représente -CO¿2?R, -CH¿2?CO¿2?R, -CH¿2?-CH¿2?CO¿2?R, -CH¿2?OH ou -CH¿2?-CH¿2?OH, R étant tel que défini plus haut, R¿3? représente phényle, hétéroaryle ou alk-R·¿3?, où alk est alcoyle et R·¿3? représente divers groupements, le cas échéant oxygénés, soufrés ou aminés, sous leurs formes énantiomères ou diastéréoisomères ou leurs mélanges, et/ou le cas échéant sous forme syn ou anti ou leurs mélanges, ainsi que leurs sels.
Bigot Antony
Cheve Michel
El Ahmad Youssef
Malleron Jean-Luc
Martin Jean-Paul
Aventis Pharma S.a.
Gowling Lafleur Henderson Llp
Novexel
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1517149