C - Chemistry – Metallurgy – 25 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
25
D
C25D 21/12 (2006.01) C25D 11/02 (2006.01) G01B 11/06 (2006.01) G01N 21/84 (2006.01) G01N 29/46 (2006.01)
Patent
CA 2594331
A system for forming an anodized coating on at least a portion of a substrate thereby creating an anodized substrate is disclosed. The system includes a bath, a coating thickness monitor, at least one probe and at least one controller. The coating thickness monitor includes at least one radiation source directed at at least a portion of the anodized substrate; at least one probe for capturing at least a portion of the radiation reflected and refracted by the anodized coating on the anodized substrate, the captured radiation being at least a portion of the radiation directed the anodized substrate from the radiation source; and at least one detector in communication with the at least one probe, the at least one detector capable of processing the captured radiation to allow a determination of at least the thickness.
L'invention concerne un système de formation d'un revêtement anodisé sur au moins une partie d'un substrat pour obtenir un substrat anodisé. Ce système comprend un bain, un mesureur d'épaisseur de révêtement, au moins une sonde et au moins une unité de commande. Le mesureur d'épaisseur de revêtement comprend au moins une source de rayonnement orientée vers au moins une partie du substrat anodisé; au moins une sonde pour capturer au moins une partie du rayonnement réfléchi et réfracté par le revêtement anodisée sur le substrat anodisé, le rayonnement capturé constituant au moins une partie du rayonnement dirigé sur le substrat anodisé par la source de rayonnement; et au moins un détecteur en communication avec au moins une sonde, ce détecteur étant capable de traiter le rayonnement capturé pour déterminer au moins l'épaisseur du revêtement.
Moffat & Co.
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1827880