C - Chemistry – Metallurgy – 07 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
C
C07C 211/26 (2006.01) A61K 31/135 (2006.01) A61K 31/275 (2006.01) A61K 31/695 (2006.01) C07C 209/60 (2006.01) C07C 211/28 (2006.01) C07C 211/29 (2006.01) C07C 211/49 (2006.01) C07C 215/52 (2006.01) C07C 217/60 (2006.01) C07C 225/16 (2006.01) C07C 229/38 (2006.01) C07C 255/58 (2006.01) C07D 277/62 (2006.01) C07D 295/135 (2006.01) C07F 7/18 (2006.01)
Patent
CA 2300273
Novel amine derivatives represented by general formula (1) which are excellent in antifungal effect and salts thereof, wherein R1 represents optionally halogenated C1-5 alkyl; R2 represents 4-(1,1-dimethylalkyl)benzyl, 4-(1-methyl- 1-phenylethyl)benzyl or 1- or 2-naphthylmethyl or a hydrocarbon carrying 3,3- dimethyl-1-butynyl or phenyl at the end and having 1 to 3 double bonds; R3 represents oxygen or methylene optionally substituted by C1-4 alkyl; and R4 represents 1- or 2-naphthyl or optionally substituted phenyl.
L'invention concerne de nouveaux dérivés d'amine représentés par la formule générale suivante (1), ces dérivés possédant un effet antifongique excellent; l'invention concerne également des sels de ces dérivés. Dans la formule (1) selon l'invention, R?1¿ représente un alkyle en C¿1-5? éventuellement halogéné; R?2¿ représente 4-(1,1-diméthylalkyl) benzyle, 4-(1-méthyl-1-phényléthyl) benzyle ou 1-ou 2-naphthylméthyle ou un hydrocarbure portant 3,3-diméthyl-1-butynyle ou phényle à l'extrémité et possédant 1 à 3 liaisons doubles; R?3¿ représente de l'oxygène ou du méthylène substitué par un alkyle en C¿1-4?; et R?3¿ représente 1- ou 2-naphthyle ou un phényle éventuellement substitué.
Itoh Takao
Kawazu Yukio
Majima Toshiro
Nakashima Takuji
Nozawa Akira
Pola Chemical Industries Inc.
Smart & Biggar
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1534242