Capacitively coupled radiofrequency plasma source

Details Capacitively coupled radiofrequency plasma source Capacitively coupled radiofrequency plasma source

H - Electricity

05

H

H05H 1/46 (2006.01) H01J 37/32 (2006.01)

Patent

CA 2049876

A plasma source is disclosed in which a pair of dissimilarly-sized electrodes are driven by a radiofrequency source to create a plasma. A magnetic field is oriented to be parallel to a surface area on the smaller electrode. The field strength increases to either side of that smaller electrode. As shown, ions are electrostatically accelerated out of the plasma, but they instead may be accelerated magnetically, electrons may in the alternative be extracted or there may be no accelerating mechanism.

On divulgue une source de plasma dans laquelle une paire d'électrodes de taille dissemblable sont alimentées par une source de radiofréquence pour créer un plasma. Un champ magnétique est orienté de manière qu'il soit parallèle à la surface de la plus petite des électrodes. La force du champ augmente des deux côtés de la plus petite électrode. Comme on le montre, les ions sont accélérés hors du plasma par les forces électrostatiques, mais ils peuvent également être accélérés par la force magnétique, les électrons peuvent aussi être extraits ou il peut ne pas y avoir de mécanisme d'accélération.

Affiliated with

Also associated with

Rating

Capacitively coupled radiofrequency plasma source does not yet have a rating. At this time, there are no reviews or comments for this patent.

If you have personal experience with Capacitively coupled radiofrequency plasma source, we encourage you to share that experience with our LandOfFree.com community. Your opinion is very important and Capacitively coupled radiofrequency plasma source will most certainly appreciate the feedback.

Rate now

Comments { 0 }

Profile ID: LFCA-PAI-O-1687859