C - Chemistry – Metallurgy – 03 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
03
C
C03C 17/00 (2006.01)
Patent
CA 2512010
A coater having a substrate cleaning device is disclosed. Also disclosed are methods of processing substrates in a coater equipped with a substrate cleaning device. The substrate cleaning device comprises an ion gun (i.e., an ion source) that is positioned beneath a path of substrate travel (e.g., beneath a substrate support) extending through the coater and that is adapted for treating a bottom major surface of a substrate. Certain embodiments involve an upward coating apparatus that is further along the path of substrate travel than the substrate cleaning device. In some embodiments of this nature, the upward coating apparatus is configured for depositing a photocatalytic coating upwardly onto the bottom major surface of the substrate. Certain embodiments of the invention involve a downward coating apparatus, wherein the substrate cleaning device is further along the path of substrate travel than the downward coating apparatus. Some embodiments of this nature also involve an upward coating apparatus that is further along the path of substrate travel than the substrate cleaning device.
La présente invention a trait à une machine à enduire comportant un dispositif de nettoyage de substrat. L'invention a également trait à des procédés de traitement de substrats dans une machine à enduire équipée d'un dispositif de nettoyage de substrat. Le dispositif de nettoyage de substrat comporte un canon à ions (c'est à dire une source d'ions) qui est disposé sous un trajet de la course de substrat (par exemple, sous un support de substrat) s'étendant à travers la machine à enduire pour le traitement d'une surface principale inférieure d'un substrat. Certains modes de réalisation comportent un appareil de revêtement vers le haut qui se trouve plus éloigné sur le trajet de la course de substrat que le dispositif de nettoyage de substrat. Dans certains modes de réalisation, l'appareil de revêtement vers le haut est agencé pour le dépôt d'un revêtement photocatalytique vers le haut sur la surface principale inférieure du substrat. Certains modes de réalisation de l'invention comportent un appareil de revêtement vers le bas dans lequel le dispositif de nettoyage de substrat se trouve plus éloigné sur le trajet de la course de substrat que l'appareil de revêtement vers le bas. Certains modes de réalisation de ce type comportent également un appareil de revêtement vers le haut qui se trouve plus éloigné sur le trajet de la course de substrat que le dispositif de nettoyage de substrat.
Borden Ladner Gervais Llp
Cardinal Cg Company
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1508508