C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 498/04 (2006.01) A61K 31/505 (2006.01) A61K 31/54 (2006.01) A61K 31/55 (2006.01) A61K 7/06 (1995.01)
Patent
CA 2285886
L'invention concerne une composition pharmaceutique ou cosmétique, destinée à être utilisée en application topique pour freiner la chute des cheveux et pour induire et stimuler leur croissance. La composition selon l'invention est caractérisée par le fait qu'elle contient dans un milieu physiologiquement acceptable, au moins un composé répondant à la formule générale: (voir formule III) dans laquelle: R désigne un atome d'hydrogène, un radical alkyle, saturé et linéaire, en C1-C8 ou forme avec le cycle pyrimidine, un cycle hydrocarboné de formule: (voir formule ci-haut) 63 où n est égal à 1, 2 ou 3; X désigne (i) un atome d'hydrogène; (ii)un groupement de formule: Image dans laquelle R1 et R2, identiques ou différents, désignent un atome d'hydrogène, un groupe alkyle saturé en C1-C12, linéaire ou ramifié, non substitué ou substitué par un atome d'halogène ou un radical trifluorométhyle, un groupe alcényle linéaire en C2-C12, un groupe cycloalkyle en C3-C10, un groupe aralkyle en C7-C12 ou un groupement aryle répondant à la formule: Image dans laquelle R9 et R10, identiques ou différents, désignent un atome d'hydrogène ou d'halogène, ou un groupe alkyle en C1-C4, hydroxyle ou alcoxy en C1-C4; ou bien R1 et R2 forment avec l'atome d'azote auquel ils sont reliés, un hétérocycle saturé ou insaturé, choisi parmi les groupe aziridino, azétidino, pyrrolidino, pipéridino, hexaméthylèneimino, heptaméthylèneimino octaméthylèneimino, tétrahydropyridino, dihydropyridino, pyrrole, pyrrazole, imidazole et thiomorpholino; (iii) un groupement -OR3, dans lequel R3 désigne un radical alkyle saturé en C1-C12, linéaire ou ramifié, non substitué ou substitué par un atome d'halogène ou un radical trifluorométhyle, un radical alcényle linéaire en C2-C12, un radical cycloalkyle en 64 C3-C10, un radical aralkyle en C7-C12, un radical phényle éventuellement substitué par un ou deux groupement, qui, indépendamment l'un de l'autre, désignent un atome d'halogène, un radical alkyle en C1-C6, un radical alcoxy en C1-C6, ou un radical trifluorométhyle; ou (iv) un groupement -SR4, dans lequel R4 a la même signification que R3; ou l'un de ses sels d'addition d'acides physiologiquement acceptables.
Dufetel Didier
Estradier Francoise
Gaetani Quintino
Hocquaux Michel
L'oreal
Ogilvy Renault
LandOfFree
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