C - Chemistry – Metallurgy – 08 – F
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
08
F
C08F 220/24 (2006.01) C07C 45/68 (2006.01) C08F 20/24 (2006.01) C08F 222/18 (2006.01) C09D 4/00 (2006.01)
Patent
CA 2471810
The invention provides photopolymerizable compositions comprising (A) at least one ethylenically unsaturated photopolymerizable fluocarbon compound selected from polyfluoroalkyl monoacrylates, polyfluoroalkyl monomethacrylatesor polyfluoroalkyl~diacrylates and (B) at least one photoinitiator of the formula (I) R is a radical of the formula (II) s is a number of 1 to 4, r is a number of 1 to 2; Y is a single bond or is a divalent linker group A if s is 1, is a radical A0, where A0 is C1-C3oalkyl, C1-C30alkenyl, C1-C30alkynyl or C1- C30aralkyl the radicals being substituted by at least two fluorine atoms and optionally further substituted by OH-, C1-C4alkoxy-, phenyl-, naphthyl-, halogen-, CN-, SR7-, NR8R9- and/or -O(CO)R10-; and the radical A0 is uninterrupted or interrupted by one or more -O-, -S- or -NR12-; A if s is > 1, is a radical A1; where A1 is C1-C30alkylene, C1-C3oalkenylene, Cl- C3oalkynylene or C1-C30aralkylene, the radicals being substituted by at least two fluorine atoms and optionally further substituted by OH-, C1-C4alkoxy-, phenyl-, naphthyl-, halogen-, CN-, SR7-, NR8R9- and/or -O(CO)R10-; and the radical A1 is uninterrupted or interrupted by one or more -0-, -S- or -NR12-.
La présente invention concerne des compositions photopolymérisables comprenant (A) au moins un composé fluorocarboné photopolymérisable éthyléniquement insaturé, choisi parmi des monoacrylates de polyfluoroalkyle, des monométhacrylates de polyfluoroalkyle ou des diacrylates de polyfluoroalkyle et (B) au moins un photo-initiateur de formule (I), dans laquelle R représente un radical de formule (II) ou, par exemple, phényle, s représente un nombre allant de 1 à 4, r représente un nombre allant de 1 à 2, Y représente une liaison simple ou un groupe de liaison bivalent, A représente, si s vaut 1, un radical A¿0?, où A¿0? représente alkyle C¿1?-C¿30?, alcényle C¿1?-C¿30?, alcynyle C¿1?-C¿30? ou aralkyle C¿1?-C¿30?, les radicaux étant substitués par au moins deux atomes de fluor et également éventuellement substitués par OH-, alkoxy C¿1?-C¿4?-, phényle-, naphtyle-, halogène-, CN-, SR¿7?-, NR¿8?R¿9?- et/ou -O(CO)R¿10?- et le radical A¿0? étant ininterrompu ou interrompu par un ou plusieurs -O-, -S- or -NR¿12?-, A représente, si s > 1, un radical A¿1?, où A¿1? représente alkylène C¿1?-C¿30?, alcénylène C¿1?-C¿30?, alcynylène C¿l?-C¿30? ou aralkylène C¿1?-C¿30?, les radicaux étant substitués par au moins deux atomes de fluor et également éventuellement substitués par OH-, alkoxy C¿1?-C¿4?-, phényle-, naphtyle-, halogène-, CN-, SR¿7?-, NR¿8?R¿9?- et/ou -O(CO)R¿10?- et le radical A¿1? étant ininterrompu ou interrompu par un ou plusieurs -O-, -S- or -NR¿12?-.
Baudin Gisele
Jung Tunja
Ciba Speciality Chemicals Holding Inc.
Fetherstonhaugh & Co.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1407644