High purity tantalum and products containing the same like...

C - Chemistry – Metallurgy – 22 – B

Patent

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Details

C22B 34/24 (2006.01) C23C 14/34 (2006.01)

Patent

CA 2352336

High purity tantalum metals and alloys containing the same are described. The tantalum metal preferably has a purity of at least 99.995 % and more preferably at least 99.999 %. In addition, tantalum metal and alloys thereof are described, which either have a grain size of about 50 microns or less, or a texture in which a (100) intensity within any 5 % increment of thickness is less than about 15 random, or an incremental log ratio of (111):(100) intensity of greater than about -4.0, or any combination of these properties. Also decribed are articles and components made from the tantalum metal which include, but are not limited to, sputtering targets, capacitor cans, resistive film layers, wire, and the like. Also disclosed is a process for making the high purity metal which includes the step of reacting a salt-containing tantalum with at least one compound capable of reducing this salt to tantalum powder and a second salt in a reaction container. The reaction container or liner in the reaction container and the agitator or liner on the agitator are made from a metal material having the same of higher vapor pressure of melted tantalum. The high purity tantalum preferably has a fine and uniform microstructure.

La présente invention concerne des métaux de tantale de grande pureté et des alliages renfermant ce dernier. De préférence, le métal de tantale présente une pureté d'au moins 99,995 % et plus préférablement au moins 99,999 %. En outre, cette invention concerne le métal de tantale et ses alliages, qui soit présentent une grosseur de grain d'environ 50 microns ou moins, soit une texture dans laquelle une intensité (100) se situant dans n'importe quel 5 % d'augmentation d'épaisseur est inférieure à environ 15 d'aléatoire, ou un rapport logarithmique d'augmentation d'intensité (111):(100) supérieur à environ 4,0, ou n'importe quelle combinaison de ces propriétés. Par ailleurs, cette invention concerne des articles et des composants à base de tantale, notamment des cibles pulvérisées, des boîtiers de condensateurs, des couches pelliculaires résistives, des câbles, et autres. De plus, cette invention concerne un processus de fabrication de ce métal de grande pureté consistant à faire réagir un tantale contenant du sel avec au moins un composé capable de réduire ce sel en poudre de tantale, et un second sel dans un récipient de réaction. Ce récipient de réaction, ou le revêtement intérieur du récipient à réaction, et l'agitateur, ou le revêtement interne de l'agitateur, sont fabriqués avec un matériau métallique caractérisé par une pression de vapeur supérieure à celle du tantale fondu. De préférence, le tantale de grande pureté possède une microstructure fine et uniforme.

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