C - Chemistry – Metallurgy – 03 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
03
C
C03C 17/42 (2006.01) C09D 183/04 (2006.01) C08L 1/28 (2006.01)
Patent
CA 2423657
Substrates have a hydrophobic surface coating comprised of the reaction products of a chlorosilyl group containing compound and an alkylsilane. Most preferably the substrate is glass. In one embodiment, highly durable hydrophobic coatings may be formed by forming a silicon oxide anchor layer or hybrid organo-silicon oxide anchor layer from a humidified reaction product of silicon tetrachloride or trichloromethylsilane, followed by the vapor- deposition of a chloroalkylsilane. Such a silicon oxide anchor layer will advantageously have a root mean square surface roughness of less than about 6.0 nm and a low haze value of less than about 3.0 %. Another embodiment includes the simultaneous humidified vapor deposition of a chlorosilyl group containing compound and a chloroalkylsilane. In preferred embodiments, the simultaneous vapor deposition onto a glass substrate of silicon tetrachloride and dimethyldichlorosilane results in a hydrophobic coating comprised of cross- linked polydimethylsiloxane, which may then be capped with a fluoroalkylsilane. The cross-linked polydimethylsiloxane layer may be formed on the surface of the glass substrate, or a silicon oxide anchor layer may be deposited under the cross-linked polydimethylsiloxane layer.
L'invention concerne des substrats ayant un revêtement superficiel hydrophobe constitué de produits de réaction d'un composé contenant un groupe chlorosilyl et d'un alkylsilane. De préférence, le substrat est en verre. Dans un mode de réalisation, les revêtements hydrophobes à haute durabilité peuvent être constitués par la formation d'une couche d'ancrage d'oxyde de silicium ou d'une couche d'ancrage d'oxyde organo-silicique hybride à partir d'un produit de réaction humidifié de tétrachlorure de silicium ou de trichlorométhylsilane, suivie d'un dépôt par évaporation de chloroalkylsilane. Une telle couche d'ancrage d'oxyde de silicium aura de préférence une rugosité de surface moyenne quadratique ne dépassant pas environ 6,0 nm et une valeur de trouble n'excédant pas environ 3,0 %. Dans un autre mode de réalisation, l'invention concerne le dépôt par évaporation humidifié simultané d'un composé contenant un groupe chlorosilyl et d'un alkylsilane. Dans des modes de réalisation préférés, le dépôt par évaporation simultané sur un substrat en verre de tétrachlorure de silicium et de diméthyldichlorosilane produit un revêtement hydrophobe comprenant la polydiméthylsiloxane réticulée, laquelle peut ensuite être coiffée d'un fluoroalkylsilane. La couche de polydiméthylsiloxane réticulée peut être formée sur la surface du substrat en verre. On peut également déposer sous la couche de polydiméthylsiloxane réticulée une couche d'ancrage d'oxyde de silicium.
Murphy Nester P.
Petrmichl Rudolph Hugo
Guardian Industries Corporation
Macpherson Leslie & Tyerman Llp
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1845867