G - Physics
01
N
G01N 31/00 (2006.01) G01N 21/77 (2006.01) G01N 31/10 (2006.01) G01N 31/22 (2006.01)
Patent
CA 2688568
In hydrogen sensors (10a, 10b, 10c, 10d), a thin film layer (12) is formed on a substrate (11), and a buffer layer (13) is laminated on the thin film layer (12). Furthermore, a catalyst layer (14) is laminated on the buffer layer (13). The catalyst layer hydrogenates the thin film layer (12) when the catalyst layer is brought into contact with hydrogen gas and changes the optical reflectance of the thin film layer (12). Component diffused from the thin film layer (12) to the catalyst layer (14) are bonded with component diffused from the buffer layer (13) to the catalyst layer (14), and the catalyst layer (14) is prevented from being oxidized. As a result, the catalyst layer (14) or the like is prevented from being oxidized due to repetition of hydrogenation of the thin film layer (12), and deterioration of hydrogen detection sensitivity of the hydrogen sensors (10a, 10b, 10c, 10d) is suppressed.
Dans des détecteurs d'hydrogène(10a, 10b, 10c, 10d), une couche de film mince (12) est formée sur un substrat (11), et une couche de tampon (13) est laminée sur la couche de film mince (12). De plus, une couche de catalyseur (14) est laminée sur la couche de tampon (13). La couche de catalyseur hydrogène la couche de film mince (12) lorsque la couche de catalyseur est mise en contact avec de l'hydrogène gazeux et modifie la réflectance optique de la couche de film mince (12). Le composant diffusé de la couche de film mince (12) vers la couche de catalyseur (14) se lie au composant diffusé de la couche de tampon (13) vers la couche de catalyseur (14), et on empêche la couche de catalyseur (14) de s'oxyder. En conséquence, on empêche la couche de catalyseur (14) ou une couche similaire de s'oxyder en raison de la répétition de l'hydrogénation de la couche de film mince (14) et la détérioration de la sensibilité de détection de l'hydrogène des détecteurs d'hydrogène (10a, 10b, 10c, 10d) est supprimée.
Uchiyama Naoki
Yoshimura Kazuki
Kabushiki Kaisha Atsumitec
National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology
Robic
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1777461