C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 487/04 (2006.01) A61K 31/505 (2006.01) A61P 7/02 (2006.01) A61P 11/06 (2006.01) A61P 35/00 (2006.01) A61P 37/08 (2006.01)
Patent
CA 2407531
A compound of the formula (I) wherein R1 is -X-R4, an optionally substituted heterocyclic residue, an optionally substituted carbocyclic residue or optionally substituted condensed ring moiety; X is CR5R6, O, S, SO, SO2 or NR7; Y is CH or N; R2 is H, an optionally substituted C1-C10 alkyl,etc.; R3 is an optionally substituted aryl, or an optionally substituted heteroaryl, etc.; R4 is an optionally substituted aryl, an optionally substituted heteroaryl, etc.; R5, R6, and R7 can be identical or different and represent H, an optionally substituted C1-C10 alkyl, etc. The compound has an excellent anti- allergic activity and the like.
L'invention concerne un composé de formule (I) dans laquelle R?1¿ représente un groupe -X-R?4¿, un résidu hétérocyclique éventuellement substitué, un résidu carbocyclique éventuellement substitué ou une entité de cycle condensé éventuellement substitué, X représente un groupe CR?5¿R?6¿, un atome d'O, un atome de S, un groupe SO, SO¿2? ou NR?7¿, Y représente un groupe CH ou un atome d'N, R?2¿ représente un atome d'H, un alkyle en C¿1?-C¿10? éventuellement substitué, etc., R?3¿ représente un groupe aryle éventuellement substitué, ou un groupe hétéroaryle éventuellement substitué, etc., R?4¿ représente un groupe aryle éventuellement substitué, ou un groupe hétéroaryle éventuellement substitué, etc., R?5¿, R?6¿, et R?7¿ peuvent être identiques ou différents et représentent un atome d'H, un groupe alkyle en C¿1?-C¿10? éventuellement substitué, etc. Le composé possède une excellente activité anti-allergique ou apparentée.
Concepcion Arnel B.
Han Gyoonhee
Kawamura Norihiro
Kokubo Toshio
Komura Hiroshi
Aktiengesellschaft Bayer
Bayer Pharmaceuticals Corporation
Fetherstonhaugh & Co.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1969266