C - Chemistry – Metallurgy – 02 – F
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
02
F
C02F 11/00 (2006.01) B09C 1/08 (2006.01) C01B 33/38 (2006.01) C01B 33/40 (2006.01) C02F 1/42 (2006.01) C02F 1/58 (2006.01) C02F 1/68 (2006.01) E01H 12/00 (2006.01) E01H 15/00 (2006.01)
Patent
CA 2559074
A modified substrate for removing aqueous oxyanions formed by: selecting a substrate from minerals or mineral equivalents having a naturally moderate to high cation exchange capacity; forming a substrate modifier from salts of the Group IIIB and Group IVB elements by dissolving one or more of the salts in water at an elevated temperature; and blending the substrate with the substrate modifier at a high shear rate.
L'invention concerne un substrat modifié permettant de retirer des oxyanions aqueux formés et consistant: à sélectionner un substrat parmi des minéraux ou des équivalents de minéraux possédant une capacité d'échange cationique naturellement modérée à élevée; à former un modificateur de substrat à partir de sels des groupes des éléments des groupes IIIB et IVB par dissolution d'un ou de plusieurs sels dans l'eau à une température élevée; et à mélanger le substrat avec le modificateur de substrat à une vitesse de cisaillement élevée.
Blake Cassels & Graydon Llp
Phoslock Technologies Pty Ltd
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1862005