Improved surface for use on implantable device

C - Chemistry – Metallurgy – 23 – F

Patent

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Details

C23F 1/02 (2006.01) A61F 2/30 (2006.01) A61L 27/50 (2006.01)

Patent

CA 2512954

An attachment surface for an implantable device has an irregular pattern (46,47,45,44,40) formed through a process including masking, chemical or electrochemical etching, blasting and debris removal steps. Surface material is removed from the implant surface without stress on the adjoining material and the process provides fully dimensional fillet radii at the base of the surface irregularities. This irregular surface is adapted to receive the ingrowth of bone material and to provide a strong anchor for that bone material which is resistant to cracking or breaking. The surface is prepared through an etching process which utilizes the random application of a maskant and subsequent etching in areas unprotected by the maskant. This chemical etching process is repeated a number of times as necessitated by the nature of the irregularities required in the surface. The blasting and debris removal steps produce microfeatures (150) on the surface that enhance the ingrowth of bone material.

La présente invention concerne un surface de fixation destinée à un dispositif implantable, présentant un motif irrégulier formé au moyen d'un procédé comprenant des étapes de masquage, gravure chimique ou électrochimique, décapage et élimination des débris. Le matériau de surface est éliminé de la surface de l'implant sans application de contrainte sur le matériau contigu, et le procédé permet d'obtenir des rayons de congé complètement à bonnes dimensions à la base des irrégularités de surface. Cette surface irrégulière est conçue pour recevoir la croissance interne de matière osseuse et pour servir à la matière osseuse d'élément d'ancrage résistant à la fissuration et à la rupture. La surface est préparée par un processus de gravure qui fait intervenir l'utilisation de l'application aléatoire d'un agent de masquage, puis la gravure dans des zones non protégées par l'agent de masquage. Ce processus de gravure chimique est répété un certain nombre de fois déterminé par la nature des irrégularités requises sur la surface. Les étapes de décapage et d'élimination des débris conduisent à l'obtention de microcaractéristiques sur la surface, qui améliorent la croissance interne de matière osseuse.

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